等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備報價常用解決方案【沈陽鵬程】

化學(xué)氣相沉積的應(yīng)用

現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)需要使用大量功能各異的無機新材料，這些功能材料必須是高純的，或者是在高純材料中有意地摻入某種雜質(zhì)形成的摻雜材料。此外，也有一些在未來有可能發(fā)展成開關(guān)以及存儲記憶材料，例如氧化銅-氧化銅等都可以使用化學(xué)氣相沉積法進行生產(chǎn)。但是，我們過去所熟悉的許多制備方法如高溫熔煉、水溶液中沉淀和結(jié)晶等往往難以滿足這些要求，也難以保證得到高純度的產(chǎn)品。因此，無機新材料的合成就成為現(xiàn)代材料科學(xué)中的主要課題。

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化學(xué)氣相沉積的特點

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特點

1）在中溫或高溫下，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。

2）可以在常壓或者真空條件下(負壓“進行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好）。

）采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進化學(xué)反應(yīng)，使沉積可在較低的溫度下進行。

4）涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。

5）可以控制涂層的密度和涂層純度。

6）繞鍍件好。可在復(fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好，所以可涂覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。

7）沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)，不耐彎曲，但可通過各種技術(shù)對化學(xué)反應(yīng)進行的氣相擾動，以改善其結(jié)構(gòu)。

8）可以通過各種反應(yīng)形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。

等離子體化學(xué)氣相沉積

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

等離子體化學(xué)氣相沉積簡稱PCVD，是一種用等離子體激發(fā)反應(yīng)氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。ICP刻蝕機的結(jié)構(gòu)想要了解更多ICP刻蝕機的相關(guān)內(nèi)容，請及時關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場作用下，源氣體電離形成等離子體，利用低溫等離子體作為能量源，通入適量的反應(yīng)氣體，利用等離子體放電，使反應(yīng)氣體激發(fā)并實現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的技術(shù)。