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靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。薄膜形成初期成核密度高，可生產10nm以下的極薄連續膜。靶材的壽命長，可長時間自動化連續生產。靶材可制作成各種形狀，配合機臺的特殊設計做更好的控制及比較有效率的生產。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完后，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表面（例如用亞離子），完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。

磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

真空狀態就需要抽氣系統來進行控制，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就能控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。