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              發(fā)布時間:2020-11-04 13:17  

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              (1)成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì),而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發(fā)源選擇自由度大??蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制,可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。(3)不使用有害氣體、液體,對環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢下,這點極其可貴。



              而它的電子的來源有二:高溫金屬產(chǎn)生的熱電子,另一種電子的來源為中空陰極放電。(4)雷射加熱:激光束可經(jīng)由光學(xué)聚焦在蒸鍍源上,產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。zui早使用的是脈沖紅寶雷射,而后發(fā)展出紫外線準(zhǔn)分子雷射。紫外線的優(yōu)點是每一光子的能量遠(yuǎn)比紅外線高,因此準(zhǔn)分子雷射的功率密度甚高,用以加熱蒸鍍的功能和電子束類似。常被用來披覆成份復(fù)雜的化合物,鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或濺射的過程有基本上的差異,準(zhǔn)分子雷射脫離的是微細(xì)的顆粒,后者則是以分子形式脫離。(5)電弧加熱:陰極電弧沉積的優(yōu)點為:①蒸鍍速率快,可達(dá)每秒1.0微米;②基板不須加熱;③可鍍高溫金屬及陶瓷化合物;④鍍膜密高且附著力佳。



              采用PVD涂鍍技術(shù)可以生產(chǎn)極薄的涂層且可以擴張到其他合金體系,因此具有更廣闊的應(yīng)用價值。涂層厚度減半甚至到原來的1/3,對涂鍍板的焊接性能和成型性能會有很大的提高。更為重要的是,與傳統(tǒng)技術(shù)相比,PVD涂鍍技術(shù)不需要進(jìn)行yan塵和排放物的控制,因此,具有環(huán)保優(yōu)勢。采用新的PVD涂鍍技術(shù),首先必須解決的問題是,實現(xiàn)涂鍍工程的工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn),達(dá)到連續(xù)化和高速化涂鍍的要求。PVD(PhysicalVaporDepsition)鍍膜,是指利用物理手段實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子級新材料轉(zhuǎn)移到基材表面的過程。


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