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發(fā)布時間:2021-09-30 12:48  
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氧氮分析儀檢出限
氧含量測定的前提是要求空白低且穩(wěn)定。 氧空白值主要是由石墨坩堝、 助熔劑、 載氣以及爐膛空白等引起的。在4.
5KW 的分析功率下, 使用高純免洗鎳囊進行測定。 實驗結(jié)果表明, 氧空白值是 0. 0030% , 標準偏差為 0. 000 1% 。 以空白標準偏差的 3 倍計算出氧的檢出限為 0. 000 3% , 以空白標準偏差的 10 倍計算出氧的測定下限為 0. 001% 。
脈沖熔融-紅外熱導法測定氮化硅中的氧和氮
氮化硅,是一種重要的結(jié)構(gòu)陶瓷材料。它是一種超硬物質(zhì),本身具有潤滑性,并且耐磨損,為原子晶體;高溫時。而且它還能抵抗冷熱沖擊,在空氣中加熱到1000℃以上,急劇冷卻再急劇加熱,也不會碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此優(yōu)異的特性,人們常常利用它來制造軸承、氣輪機葉片、機械密封環(huán)、性模具等機械構(gòu)件。如果用耐高溫而且不易傳熱的氮化硅陶瓷來制造發(fā)動機部件的受熱面,不僅可以提高柴油機質(zhì)量,節(jié)省燃料,而且能夠提高熱效率。
采用氮化硅純物質(zhì)為參考物質(zhì),使用納克ONH-3000固有的操作軟件中的線性擬合程序可以建立氧、氮元素的工作曲線,通過分析氮化硅中的氧和氮,獲得了很好的重復性和再現(xiàn)性。
鋼研納克氧氮氫分析儀技術(shù)優(yōu)勢
原裝進口的固態(tài)紅外檢測部件,瑞士進口同步電機,美國進口、穩(wěn)定紅外光源
先進的紅外恒溫控制技術(shù),確保測量精度
熱導檢測器采用NTC熱敏電阻元件;小電流控制技術(shù),防止熱敏元件在不通載氣條件下氧化;
分析氣流量采用電子流量控制技術(shù)
樣品在脈沖電阻爐惰性氣體中燃燒溫度超過3000℃
對不同種類樣品可以分別建立相應(yīng)的校準方法及參數(shù),并存儲到數(shù)據(jù)庫,分析方法數(shù)量不受限制
設(shè)有多種分析模式,可分別測定樣品中總氧量、總氮量和總氫量以及其中各種氧化物分氧量和各種氮化物分氮量
采用熱抽取分析技術(shù),通過在低于熔點的溫度下加熱樣品,測定樣品中的殘留氫
獨具特色的計算機軟件,的線性化處理效果,豐富的自診斷功能
分析過程中可自動實現(xiàn)從低范圍到高范圍的通道自動切換
具有測量時間短、靈敏度高、測量范圍寬,性能好和分析結(jié)果準確可靠等優(yōu)點