鎮(zhèn)江金屬砂磨機(jī)廠家直供「東研機(jī)械」

平面研磨拋光機(jī)砂帶堵塞的原因總結(jié)

平面研磨拋光機(jī)砂帶堵塞的原因總結(jié) 在平面研磨拋光機(jī)中砂帶的作用不可忽視，對于提高工件的精度和機(jī)械設(shè)備的工作效率大有幫助。而砂帶堵塞是研磨加工行業(yè)常見的問題，砂帶堵塞會導(dǎo)致其壽命縮短，磨削能力下降。對此，我們具體分析有哪些原因會造成砂帶堵塞。 1、平面研磨拋光機(jī)運(yùn)行中的研磨壓力過大。 2、砂帶的磨料與設(shè)備運(yùn)行需求不合適。 3、砂帶單側(cè)與工作臺的平行度呈現(xiàn)差異，需要調(diào)整兩者的平行度。 4、砂帶溫度過高導(dǎo)致磨削溫度高。

東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機(jī)知識

東研生產(chǎn)的兩種系列研磨機(jī)知識 研磨機(jī)在高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面這幾種表面要求加工的工件上的研磨工藝突出，研磨機(jī)在寶石、晶片、不銹鋼、汽車等行業(yè)的表面處理應(yīng)用廣泛。 東研主要研發(fā)單面研磨拋光機(jī)和雙面研磨拋光機(jī)和翻轉(zhuǎn)機(jī)等研磨設(shè)備，單面研磨拋光機(jī)可廣泛應(yīng)用于各類材料的單面研磨拋光，特別是針對超薄工件、越大工件、易碎工件有明顯的加工優(yōu)勢。而雙面研磨拋光機(jī)可廣泛應(yīng)用于多種材料的雙面研磨拋光，研磨后可達(dá)到0.002毫米的平面誤差，使用性能穩(wěn)定。

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了

切割、研磨、拋光容易忽視的操作環(huán)節(jié)要注意了 研磨拋光，切割前應(yīng)對其定向，確定切割面，切割時(shí)首先將鋸片固定好，被切晶體材料固定好，切割速度選擇好，切割時(shí)不能不用切割液，它不僅能沖洗鋸片，而且還能減少由于切割發(fā)熱對晶體表面產(chǎn)生的損害，切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。 切割下來的晶片，要進(jìn)入下一道工序研磨。首先要用測厚儀分類測量晶片的厚度進(jìn)行分組，將厚度相近的晶片對稱粘在載料塊上。粘接前，要對晶片的周邊進(jìn)行倒角處理。粘片時(shí)載料塊溫度不易太高，只要固定臘溶化即可，晶片擺放在載料塊的外圈，粘片要對稱，而且要把晶片下面的空氣排凈（用鐵塊壓實(shí)）。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。在研磨過程中適時(shí)測量減薄的厚度，直到工藝要求的公差尺寸為止。 使用研磨拋光機(jī)前要將設(shè)備清洗干凈，同時(shí)為保證磨盤的平整度，每次使用前都要進(jìn)行研盤，研盤時(shí)將修整環(huán)和磨盤自磨，選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進(jìn)行，每次修盤時(shí)間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時(shí)晶片表面不受損傷，達(dá)到理想的研磨效果。 拋光前要檢查拋光布是否干凈，拋光布是否粘的平整，一定要干凈平整。進(jìn)行拋光時(shí)，拋光液的流量不能小，要使拋光液在拋光布上充分飽和，一般拋光時(shí)間在一小時(shí)以上，期間不停機(jī)，因?yàn)橥C(jī)，化學(xué)反應(yīng)仍在進(jìn)行，而機(jī)械摩擦停止，造成腐蝕速率大于機(jī)械摩擦速率，而使晶片表面出現(xiàn)小坑點(diǎn)。 設(shè)備的清洗非常重要，清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后，都要認(rèn)真將設(shè)備里外清洗干凈。