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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響 ：

偏壓：偏壓施加于工件上，在輝光清洗時工件（陰極）與爐體之間產生輝光放電，部分氣被電子離化產生離子，離子（帶正電）在負偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面，偏壓越大，對工件的轟擊凈化越干凈，但同時工件本身的溫升也越大，特別是尖角位棱角位置；在反應濺射氣氛中，加入工作氣體越多，濺射速率越高，當加入的工作氣體過多時，反應氣體來不急將所有濺射出來的原子反應掉，膜層內就會含有金屬，我們把這種狀態叫翻轉。在離子轟擊中用于加速離子，提高離子轟擊工件表面的能量，去除表面氧化層和吸附物，達到提高膜層結合力的作用。

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數增多，同時等離子體密度也減弱，動能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差。

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中，然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發，當蒸發原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結形成具有一定厚度的沉積層日。

鍍膜原理

陰極真空磁控濺射的特點：膜層厚度均勻、鍍膜速度快、基板溫度低。濺射鍍膜利用2個原理：輝光放電、連續撞擊。濺射過程是建立在氣體放電基礎上的，放電從低壓下開始的，氣體離子與靶材相互作用，離子不斷的撞擊靶表面，靶材從靶表面被轟擊下來然后在靶附近的基片（玻璃）上沉積下來，凝結成一層薄膜。減小占空比有利于抑制打火損傷和降低工件表面的溫度、輝光放電清洗和離子轟擊的效果。