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影響鍍膜機磁控靶點火電壓的幾個因素

氣體壓力對點火電壓的影響：在磁控靶濺射鍍膜工藝過程中，由于磁控靶的陰-陽極間距一經確定就是一個大體不變的值，工作氣體的壓力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范圍內變化可能會對點火電壓產生較大的影響，總的變化趨勢為：隨著工作氣體的壓力的逐步增大，磁控靶點火電壓相應降低。不同的磁控靶、不同材質的靶材，靶啟輝點火的工作氣體壓強不盡相同。

電源對點火電壓的影響：在同等條件下，選用射頻靶電源比選中頻或直流靶電源，磁控靶陰極點火電壓和工作(濺射)電壓都會要降低;選用射頻、中頻正弦半波或脈沖靶電源，比選低頻率同類波形靶電源，陰極點火電壓和工作(濺射)電壓均會要降低;

真空鍍膜檢漏有哪3個過程?

真空鍍膜檢漏有哪3個過程？ (1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的，被檢件內部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內部噴吹被檢件。如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內部經漏孔流失，從而導致被檢件內部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內部流出，然后再經過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

鍍膜涂裝設備對現代化的重要性

無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的，其特點主要集中在能夠連續大量抽氣，可以獲得清潔無油的超高真空。并且該系統啟動時間快，停泵時間短。但是該系統抽重氣體比抽輕氣體快，對水蒸氣類型的的抽速比較慢，當氣體大量經過泵的時候，抽速就會下降的很快。 這兩種真空鍍膜設備各有各的優點和缺點，使用者應該考慮自己的需求來進行選購。