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              反滲透純水設(shè)備承諾守信 滋源環(huán)保科技有限公司

              發(fā)布時間:2020-12-15 15:41  

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              視頻作者:天津滋源環(huán)保科技股份有限公司






              天津滋源環(huán)保科技有限公司是天津市濱海高新區(qū)華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)注冊的科技型企業(yè)。擁有一批從事污水處理行業(yè)多年的科技人才,獲得多項污水處理應(yīng)用領(lǐng)域的自有知識產(chǎn)權(quán)。

              設(shè)備內(nèi)外壁表面光滑平整、無死角,容易清洗、滅菌。零件表面做鍍鉻等表面處理,以耐腐蝕,防止生銹。設(shè)備外面避免用油漆,以防剝落。

              制備純化水設(shè)備采用低碳不銹鋼或其他經(jīng)驗證不污染水質(zhì)的材料。純化水的設(shè)備應(yīng)定期清洗。




              超純水設(shè)備的工藝流程為:

              1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。

              2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。

              3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。

              4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。

              5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。





              純凈水設(shè)備的反滲透系統(tǒng)主要是去除水中雜質(zhì),使出水水質(zhì)達(dá)到用戶需求。反滲透系統(tǒng)主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。

              當(dāng)反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標(biāo)不能滿足要求時,就需要依靠純凈水設(shè)備的清洗系統(tǒng)對反滲透系統(tǒng)進(jìn)行清洗使之恢復(fù)功效。清洗系統(tǒng)主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。




              天津滋源環(huán)保科技有限公司是天津市濱海高新區(qū)華苑產(chǎn)業(yè)區(qū)注冊的科技型企業(yè)。擁有一批從事污水處理行業(yè)多年的科技人才,獲得多項污水處理應(yīng)用領(lǐng)域的自有知識產(chǎn)權(quán)。電流密度對電堆積重金屬的影響主要體現(xiàn)在金屬堆積層成核與生長方式、電堆積速率等兩個方面。適當(dāng)?shù)碾娏髅芏瓤墒闺姌O外表形成形核細(xì)致、均勻的堆積層,回收的重金屬晶體形態(tài)較好,具有較高的價值。而過低或過高的電流密度會對重金屬結(jié)晶形態(tài)發(fā)生影響,如電流密度過低,電堆積速率會明顯放緩,結(jié)晶速度減慢,晶體過大;電流密度過大雖然能加快金屬離子的堆積速率,但會導(dǎo)致溶液中金屬離子的遷移速率明顯小于電極外表堆積速率,陰極附近放電的陽離子數(shù)目減少,電極外表會形成蓬松狀的堆積層,減少金屬堆積點位[58]電極外表金屬堆積層晶粒大小與電流密度變化關(guān)系。Hamlaoui等[59]研究了電流密度對陰極堆積氧化物的影響,發(fā)現(xiàn)在低電流密度條件下,堆積物呈團(tuán)簇狀,而在較高的電流密度(>1mA /c㎡)下沒有團(tuán)簇產(chǎn)生,形成的晶粒尺寸小。這說明隨著電流密度的變化,金屬堆積的結(jié)構(gòu)也會發(fā)生相應(yīng)變化。過高的電流密度會影響重金屬堆積效果,這主要是由于較慢的離子遷移速率所引起,但可通過同時提高電流密度和離子遷移速率來提高堆積速率。Ning等設(shè)計了獨(dú)特的廢液通路,將陽極作為噴管,使廢液以3m/速度噴射到陰極表面,同時將電流密度提高到120mA /c㎡。這種方式下沉積的銅呈塊狀,可直接回收,且回收率為傳統(tǒng)模式的20倍。





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