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PVD技術出現于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。在高速具領域的成功應用引起了世界各國制造業的高度重視，人們在開發、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色制造的發展方向。

磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出并沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧涂層的離子束源采用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在于可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，并可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至。

化學氣相沉積的特點

化學氣相沉積工藝是，將加熱的模具暴露在發生反應的混合氣氛（真空度≤1Pa）中，使氣體與模具表面發生反應，在模具表面上生成一層薄的固相沉積物，如金屬碳化物、氮化物、硼化物等。這里有兩個關鍵因素：

一是作為初始混合氣體氣相與基體固相界面的作用，也就是說，各種初始氣體之間在界面上的反應來產生沉積，或是通過氣相的一個組分與基體表面之間的反應來產生沉積。

二是沉積反應必須在一定的能量條件下進行。一般情況下，產生氣相沉積的化學反應必須有足夠高的溫度作為條件，在有些情況下，可以采用等離子體或激光輔助作為條件，降低沉積反應的溫度。

PVD是一種出色的真空鍍膜工藝，可改善耐磨性和耐腐蝕性。它對于功能性應用非常需要，例如工具，裝飾件，光學增強，模具，模具和刀片。這些只是各種各樣已經建立好的應用程序的幾個例子。

此技術中使用的設備維護成本低，并且對環境無害。PVD涂層的好處很多。如PVD可以提供真正獨特的優勢，從而增加產品的耐用性和價值。沉積技術在機加工過程中具有重要作用。

機加工工具可能是緊急的應用之一，需要一些特性，例如高溫下的硬度，高耐磨性，化學穩定性，韌性和剛度。此外，PVD還能夠生產具有優異附著力，均勻層，設計結構，漸變特性，可控形態，材料和特性的高度多樣性的涂層。