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發(fā)布時間：2021-10-26 05:47
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小型自動磁控濺射儀
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?
1. 濺射室極限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa；
4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度：≤5Pa
5. 濺射真空室1套，立式上開蓋結(jié)構(gòu)，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)，弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光，內(nèi)含防污內(nèi)襯，可內(nèi)烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)
6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套， 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉(zhuǎn)基片臺 1套，樣品臺可放置不小于100mm樣品1片，具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)。基片加熱溫度：室溫—500°C連續(xù)可調(diào)，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套，包含：100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路； DN16充氣閥、管路、接頭等2路；
10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套，包含1臺進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源（680L/s ，德國普發(fā)Hipace700分子泵）；但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小。1臺機(jī)械泵（4L/S） ，1臺DN40氣動截止閥，機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套，CC150氣動閘板閥1臺（用于復(fù)合分子泵與真空室隔離），節(jié)流閥1臺，DN40旁抽氣閥1臺，壓差式充氣閥1臺；管道采用不銹鋼三通及波紋管，
11. 安裝機(jī)臺架組件 1套，由方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機(jī)臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾，四只腳輪，可固定，可移動。
磁控方箱生產(chǎn)線介紹
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
主要由真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計算機(jī)控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。
技術(shù)指標(biāo)： 極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa（短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣）
鍍膜方式：磁控靶為直靶，向下濺射成膜； 樣品基片: 負(fù)偏壓 -200V
樣品轉(zhuǎn)盤：在基片傳輸線上連續(xù)可調(diào)可控，在真空下可輪流任意靶位互換工作。樣品轉(zhuǎn)盤由伺服電機(jī)驅(qū)動，計算機(jī)控制其水平傳遞；
可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)，計算機(jī)控制系統(tǒng)的功能：對位移和樣品公轉(zhuǎn)速度隨時間的變化做實時采集，對位移誤差進(jìn)行計算，以曲線和數(shù)值顯示。樣品公轉(zhuǎn)速度對位移曲線可在線性和對數(shù)標(biāo)度兩種顯示之間切換，可實現(xiàn)換位鍍膜。
以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。
磁控濺射系統(tǒng)介紹
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真空泵和測量裝置：
低真空：干泵和convectron真空規(guī)
高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī)
5.控制系統(tǒng)：
硬件：PLC和計算機(jī)觸摸屏控制
自動和手動沉積控制
主要特點：
射頻電源：基底預(yù)先清洗和等離子體輔助沉積
溫度控制器：基底加熱
大面積基底傳送裝置
冷卻系統(tǒng)
