淮北電弧離子鍍膜設備廠家量大從優「多圖」

鍍膜的工藝種類有哪些不同點?

鍍膜的工藝種類有哪些不同點？ 1、水電鍍： 一般適用于ABS料、ABS PC料的產品。主要工藝是將需電鍍的產品放入化學電鍍液中進行電鍍。依據客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因為電鍍后的產品其導電性顯著增強，關于某些需絕緣的部件怎么辦？ 方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，然后到達絕緣作用！當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護起來，同樣到達絕緣的作用。 2、真空離子鍍，又稱真空鍍膜：一般適用規模較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的產品。一起因其工藝流程雜亂、環境、設備要求高，單價比水電鍍貴重。現對其工藝流程作扼要介紹：產品外表清潔、去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。 真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特別； 工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。 3、兩種工藝的差異：水電鍍因工藝較簡略，從設備到環境得要求均沒有真空離子鍍嚴苛，然后被廣泛運用。在東莞很簡單找到此類的供貨商。而真空電鍍優異供貨商在東莞、深圳兩地不是許多，至少俺目前沒有太多此類供貨商信息。但，水電鍍有個缺點，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的作用也不是很抱負）。而ABS料耐溫只要80℃，這使得它的運用規模被限制了。而，真空電鍍可達200℃左右，這對運用在高溫的部件就能夠進行電鍍處理了。像風嘴、風嘴環運用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫。另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在終噴一層UV油，這樣使得產品外表即有光澤、有耐高溫、一起又確保附著力。

淺談真空鍍膜機的定義、原理及應用范圍

淺談真空鍍膜機的定義、原理及應用范圍 真空鍍膜機就是在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜機是指用物理的方法沉積薄膜。 真空鍍膜機有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 真空鍍膜機技術初現于20世紀30年代，四五十年始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調控、加工方便等優勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料，大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。

磁控濺射鍍膜技術介紹

磁控濺射鍍膜技術介紹 磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控制穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。 磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下： 陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗→性能測試→包裝、入庫。 以上工藝技術就是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。 磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應的物理化學手段來對金屬材料進行轉換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術含量更高，加工流程也更加復雜。 磁控濺射鍍超硬膜，結合NCVM光學鍍膜技術，其鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點，已在電子產品中獲得大量應用。隨著電子工業的迅猛發展，NCVM鍍膜憑借本身優越的性能，在真空電鍍技術領域脫穎而出，成為了電子消費品生產中的一項核心技術，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環境污染問題進行解決。

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產生的原因

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產生的原因 光學鍍膜機主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發源構成的蒸發角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。 改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發角。 改善對策： ㈠ 條件許可，用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機臺; ㈢ 根據傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸發源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發狀況。