脈沖激光沉積裝置價格誠信企業「沈陽鵬程」

PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

技術指標：

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　

恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可實現公轉換靶位描等基片加熱可連續回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離300-350mm可調。　　

二維掃描機械平臺，執行兩自由度掃描,控制的內容主要有公轉換靶、靶自轉、樣品自轉、樣品控溫、激光束掃,

質量流量控制器1路　　

烘烤溫度：150℃數顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數顯自動熱偶控溫可加熱到800℃）

脈沖激光沉積系統配置介紹

想要了解更多脈沖激光沉積的相關內容，請及時關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網站。

脈沖激光沉積系統配置：

生長室，進樣室可選水平、垂直兩種靶臺可選激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺可選，激光加熱高的溫度1200℃工藝氣路可以任意搭配配備高壓RHEED，工作氣壓可達100Pa可預留法蘭，用于LEED，K-Cell, E-beam等其它可選項如臭氧發生器，離子源，掩膜系統等。智能視窗不僅可準確監視沉積過程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長時間保持激光束光路的清潔6。

脈沖激光沉積原理

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享脈沖激光沉積的相關內容，希望對同行業的朋友有所幫助。想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話或關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網站！

脈沖激光沉積原理：在真空環境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產生的局域熱量將靶材物質轟擊出來，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

常規沉積條件下的組合合成

脈沖激光沉積系統特點及優勢：

可根據客戶需求定制產品，靈活性高，并提供專業的技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續, 交貨期短，性價比高；

沈陽鵬程真空技術有限責任公司擁有先進的技術，我們都以質量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業務。如果您對脈沖激光沉積感興趣，歡迎點擊左右兩側的在線客服，或撥打咨詢電話。