合肥AF真空鍍膜機廠家報價 至成鍍膜機

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表面處理的不足，且各項技術指標都優于傳統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。催化液和傳統處理工藝相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經任何處理。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國家環保產品技術。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟及原理

廠家在采購PVD真空鍍膜機時，商家都會培訓PVD真空鍍膜機的相關知識，如鍍膜技術工藝步驟、原理、保養維護方法，機器的運行注意事項等等，今天至成小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟，分為以下四個步驟：

（1）清洗工件：接通直流電源，Ar氣進行輝光放電為Ar離子，Ar離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

（2）鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發氣化。

（3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞以及高壓電場后，高速沖向工件；

（4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

如果是鍍離子鍍時，蒸發料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能，高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

光學真空鍍膜機鍍膜技術和裝備

光學真空鍍膜機給人感覺，遙不可及，但是現如今光學鍍膜機在市場上使用非常廣泛了，也得到了很多廠商的認可和喜愛。今天至成小編為大家講解一下關于光學鍍膜相關的知識。光學薄膜是現代光學和光電系統重要的組成部分，在光通信、光學顯示、激光加工、激光核聚變等高科技及產業領域已經成為核心元器件，其技術突破常常成為現代光學及光電系統加速發展的主因。光學薄膜的技術性能和可靠性，直接影響到應用系統的性能、可靠性及成本。隨著行業的不斷發展，精密光學系統對光學薄膜的光譜控制能力和精度要求越來越高，而消費電子對光學薄膜器件的需求更強調超大的量產規模和普通大眾的易用和舒適性。