鎂合金微弧氧化著色生產基地「多圖」

微弧氧化技術特點

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內部致密的陶瓷層。 膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術、微弧氧化生產線

2、微弧氧化技術絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據基材熔點溫度 有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產工藝

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000hv，高可達3000hv，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應用中的缺點，因此該技術有廣闊的應用前景；

       微弧氧化產生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發生相轉變和結構轉變。微弧氧化手電解質溶液及其組分的影響微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術關鍵。在微弧氧化的過程下，原來生產的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。經測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源