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發布時間:2020-11-30 10:41  
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相對濕度越高,粘附的難去掉,但當相對濕度低于30%時,又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產溫度范圍為35—45%。我們國家的空氣分子控制等的技術正在朝有利的方向發展,這項技術原先是由日本發展起來的,現在已經受到了全世界的關注和認可,在我們國家,這項技術已經受到了相關行業的重視并且投入研發,相信在不久的未來,我們國家的相關科研人員一定會在這個領域取得讓人滿意的成績,為我們國家的凈化工程行業做出貢獻。而隨著凈化技術的發展,建設凈化車間的技術含量也越來越高,非專業人士不能也。除了在生產領域,凈化工程技術還會逐漸應用于家庭、公共場合,為人們提供更潔凈的生活空間
