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發布時間:2020-08-08 11:57  
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電弧蒸發鍍膜
在高真空下通過兩導電材料制成的電極之間產生電弧放電,利用電弧高溫使電極材料蒸發。電弧源的形式有交流電弧放電、直流電弧放電和電子轟擊電弧放電等形式。
優點薄膜純度高造價低適用于具有一定導電性的難熔金屬、石墨等
缺點
會飛濺出微米級的靶材料顆粒,影響薄膜質量
利用高頻電磁場感應加熱,使材料汽化蒸發在基片表面凝結成膜的技術。
PVD技術四個工藝步驟
(1)清洗工件:接通直流電源,氣進行輝光放電為離子,離子轟擊工件表面,工件表層粒子和臟物被轟濺拋出;
(2)鍍料的氣化:即通入交流電后,使鍍料蒸發氣化。