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發布時間：2020-11-06 07:46
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在芯片制造領域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領域的關鍵。在業界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。
而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產光刻機還在路上，目前我國已經能夠使用365納米波長的光生產22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產光刻機可以使用低成本光源，實現了更高分辨力的光刻。
可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式，對油墨涂層的均一性要求不是很高，只要能保證涂層能夠在蝕刻時對產品需保護部位得到充分的保護。
此工序和制作網板中的涂布工序差不多，只是制作網板是在網砂上涂感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件表面涂布
熱風預烘干（30-40℃，10-15分）
目的只是防止曝光時感光油墨粘住菲霖。要在暗室中進行操作。
曝光
高壓燈、碘燈、金屬鹵素燈。
時間：二十秒左右，抽真空；根據工件的精度要求適當調整曝光時間。精度要求越高，曝光時間要適當縮短
顯影
對于水光油墨，可采用1%碳酸鈉水溶液或直接用清水，溫度25-30℃，手工顯影或噴射顯影。
對于油光油墨，可采用進行手工顯影或噴射顯影。
激光蝕刻機
相對于傳統的濕法蝕刻，激光蝕刻不直接接觸材料表面、CAD圖紙直寫，無須掩模，因此可靠性更強，良率更高，一致性更好，蝕刻線寬大小可調，圖形任意，該技術已經廣泛應用于觸摸屏，LCD，PDP，電子書，OLED等工業生產。而在其他應用領域，尤其是一些更高要求的多層次材料的選擇性蝕刻，是其他傳統方法無法做到的。
金屬板材在經蝕刻機蝕刻之前影響堿液除油效果的因素很多，很復雜，但主要的影響因素有堿性除油液中的各種成分的配比是否合理，除油液的溫度，被脫脂工件本身的材料及含油量。除油過程中有否采用強化措施以及所定的除油時間是否足夠等。
1、金屬材料的類型及表面狀態
堿液除油中不同金屬材料的工件，應有不同的除油配方機工藝參數。
2、除油液的各種成分及含量的影響。
3、除油液的操作溫度
一般操作溫度不要太高。在保證除油效果和質量的前提下，操作溫度越大越好。可以利用添加少量表面活性劑，強化潤濕、滲透及乳化過程，把溫度降低，又能保證除油的效果和質量。
4、除油的強化措施
5、除油的時間
除油時間取決于各種的操作條件，首先是堿液的直來那個越好，特別是剛開始使用的堿液出有效果好，所需的時間就短。
6、除油厚的清洗
