橋頭真空納米鍍膜優(yōu)惠報(bào)價(jià)「拉奇納米」

隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)材料的綜合性能要求也不斷提高，單一材料性能已不能滿足某些特定環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。鍍膜技術(shù)在建筑玻璃和汽車玻璃上的應(yīng)用建筑玻璃有透光和隔熱兩個(gè)基本功能。國(guó)內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展，相對(duì)于國(guó)外鍍膜設(shè)備而言，在自動(dòng)化程度與技術(shù)上取得了一定的進(jìn)步，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和性方面尚需提升，設(shè)備仍依賴進(jìn)口。同時(shí)多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場(chǎng)存在供大于求的情況，價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)較為激烈。

如何正確使用真空鍍膜設(shè)備。

機(jī)床的正常進(jìn)行運(yùn)行的情況下，啟動(dòng)機(jī)器，要先打開(kāi)水管，應(yīng)始終注意提高工作水壓力。

同時(shí)離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不能接觸，防止觸電。涂層中的電子槍，鋁的外鐘。建議用鉛玻璃觀察窗玻璃，應(yīng)戴眼鏡觀察鉛玻璃，防止射線照射人體。多層介質(zhì)膜涂層的沉積應(yīng)配備通風(fēng)除塵設(shè)備，及時(shí)清除有害粉塵。

真空鍍膜設(shè)備膜層色澤不均：(1)底漆噴涂得不均勻。應(yīng)改進(jìn)底漆的施涂方法。(2)膜層太薄。應(yīng)適當(dāng)提高濺射速度或延長(zhǎng)濺射時(shí)間。(3)夾具設(shè)計(jì)不合理。應(yīng)改進(jìn)夾具設(shè)計(jì)。但北京丹普表面技術(shù)有限公司的真空鍍膜機(jī)設(shè)備可以提供陰極電弧PVD涂層服務(wù)可提供更硬，更潤(rùn)滑的產(chǎn)品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。(4)鍍件的幾何形狀太復(fù)雜。應(yīng)適當(dāng)提高鍍件的旋轉(zhuǎn)速度。真空鍍膜設(shè)備膜層發(fā)皺、龜裂：(1)底漆噴涂得太厚。應(yīng)控制在7—lOtan厚度范圍內(nèi)。(2)涂料的粘度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。(3)蒸發(fā)速度太快。應(yīng)適當(dāng)減慢。(4)膜層太厚。應(yīng)適當(dāng)縮短濺射時(shí)間。(5)鍍件溫度太高。應(yīng)適當(dāng)縮短對(duì)鍍件的加溫時(shí)間。

真空鍍膜設(shè)備膜層附著力不良：(1)鍍件除油脫脂不干凈。應(yīng)加強(qiáng)鍍前處理。(2)真空室內(nèi)不清潔。應(yīng)清洗真空室。主要分類有兩個(gè)大種類:蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。值得注意的是，在裝靶和拆靶的過(guò)程中，嚴(yán)禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸，以保證磁控源具有較高的清潔度，這是提高膜層結(jié)合力的重要措施之一。(3)夾具不清潔。應(yīng)清洗夾具。(4)底涂料選用不當(dāng)。應(yīng)更換涂料。(5)濺射工藝條件控制不當(dāng)。應(yīng)改進(jìn)濺射工藝條件。