pvd真空鍍膜公司的行業須知「多圖」

  真空電鍍原理

  電鍍廠需要一個向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡合主鹽中金屬離子形成絡合物的絡合劑，用于穩定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細化劑、整平劑、潤濕劑、應力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過程是鍍液中的金屬離子在外電場的作用下，經電極反應還原成金屬原子，并在陰極上進行金屬沉積的過程。因此，這是一個包括液相傳質、電化學反應和電結晶等步驟的金屬電沉積過程。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氣為保護性氣體，防止氧化反應影響鍍層質量。

　真空鍍膜能使原材料具有許多新的、的物理和有機化學特點。二十世紀七十年代，在物品表面上表面的表層的鍍膜的方法重要有電鍍法和化學鍍鎳法。前邊一種是依據插線，使鋰電鋰電池電解液電解水，被電解水的等離子噴涂到作為另一個電極的基本表面上，因此這類表面的表層的鍍膜的規范，基本盡量是電的良導體，而且塑料膜厚薄也沒法控制。后邊一種是采用有機化學還原法，盡量把膜材配備成溶液，并能迅速報考報名參加氧化還原反應，這類表面的表層的鍍膜方法不僅塑料膜的結合抗拉強度差，而且表面的表層的鍍膜既不均勻也不易控制，此外還會繼續再次導致許多的污水，造成 情況嚴重的空氣污染。因此，這二種被大伙兒稱之為濕式表面的表層的鍍膜法的表面的表層的鍍膜制作工藝遭到了十分大的限制。

真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。由于真空熱處理時，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。更為可貴的是，真空熱處理在生產過程中不會產生任何污染環境的物質，從而被大家公認屬于清潔生產技術范疇。可以毫不夸張地說，真空熱處理已成為當前先進熱處理生產技術的主要標志。