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真空鍍膜機真空的清洗方法,你知道嗎?

真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統材料表面清除所不期望的物質的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一．真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣

二．紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加．

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因多方面

二次污染造成的洗凈的玻璃在鍍膜前需經過加熱，抽真空和濺射等過程，而使玻璃再次污染，從而使玻璃鍍膜后產生。玻璃加熱過程中再污染是加熱室或濺射室不干凈，而對玻璃再污染，這些污染源主要來源于擴散泵返油、加熱室或濺射室內臟、靶玻璃材濺射產生靶灰，殘余氣體壓強高等諸多方面。因為一般的固體物質，每單位表面積上的分子數大約為10個左右，在常Pa的壓強下，每秒鐘撞表面的分子數大體上相當于覆蓋物質積的分子數。在殘余氣體壓強為10的情況下，假如以每秒一層原子左右的形成速度進行鍍膜時，則蒸發的原子和殘余氣體的分子幾乎是以相同的幾率碰撞基片。在濺射過程中在充入氣時壓強為10～10時所形成膜的速度和蒸發條件下基本相同。

臥式蒸發真空鍍膜設備

該設備結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環、化妝品、玩具等行業。

臥式蒸發真空鍍膜設備具有：結構合理、膜層均勻、成膜質量好、抽速大、工作周期短、生產、操作方便、能耗低性能穩定等優點。廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機、反光環、化妝品、玩具等行業。

鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全啞）、工藝電鍍、拉絲、雨滴、七彩等等。

至成鍍膜機廠家可以根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。

真空鍍膜機光學厚度的監測

真空鍍膜機光學厚度的監測 精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學厚度的監測。optimalswa-i-05單一波長的光學監測系統，是間接控制，鍍膜機先進的光學監測軟件結合王博士的發展，有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少的誤差的理論方法，提供監測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監控包括不規則的膜。