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發(fā)布時間：2021-10-20 13:48
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PLD450型脈沖激光鍍膜介紹
以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。
技術(shù)指標：
極限真空度：≤6.7×10 Pa
恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф450球型真空室 ，
基片尺寸：可放置4″可實現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶位描等基片加熱可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm可調(diào)?！ ?
二維掃描機械平臺，執(zhí)行兩自由度掃描,控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶、靶自轉(zhuǎn)、樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃,
質(zhì)量流量控制器1路
烘烤溫度：150℃數(shù)顯自動熱偶控溫（高溫爐盤，數(shù)顯自動熱偶控溫可加熱到800℃）
脈沖激光沉積簡介
隨著現(xiàn)代科學和技術(shù)的發(fā)展，薄膜科學已成為近年來迅速發(fā)展的學科領(lǐng)域之一，是凝聚態(tài)物理學和材料科學的一個重要研究領(lǐng)域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不僅具有豐富的物理內(nèi)涵，而且在微電子、光電子、超導材料等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用。長期以來，人們發(fā)明了多種制膜技術(shù)和方法：真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點，并在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司擁有先進的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務(wù)。但由于其各有局限性，仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術(shù)和設(shè)備的發(fā)展，特別是高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展，脈沖激光沉積（PLD）技術(shù)的特點逐漸被人們認識和接受
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脈沖激光沉積的應(yīng)用領(lǐng)域
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司為您提供。
脈沖激光沉積技術(shù)適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。
應(yīng)用領(lǐng)域：
單晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）
壓電薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）
鐵電薄膜（BaTiO3，KH2PO4）
熱電薄膜（SrTiO3）
金屬和化合物薄膜電極（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）
半導體薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）
高K介質(zhì)薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）
超導薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）
光波導，光學薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）
超疏水薄膜（PTFE）
紅外探測薄膜（V2O5，PZT）
脈沖激光沉積介紹
脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr?！驹O(shè)備主要組成】設(shè)備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計算機控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準分子激光器等組成。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。
另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù)，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司以誠信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強大的銷售團隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！
