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              超純水設(shè)備價格服務(wù)至上“本信息長期有效”

              發(fā)布時間:2020-10-28 14:54  

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              超純水設(shè)備的重要配件清洗


              膜清洗頻率與預(yù)處理措施的完善程度是緊密相關(guān)的。預(yù)處理越完善,清洗間隔越長,反之,預(yù)處理越簡單,清洗頻率越高。盡可能在脫鹽率下降顯示出來以前采取措施。正規(guī)安排的保護性維護清洗不足以保護反滲透系統(tǒng)。譬如,由于預(yù)處理設(shè)備運行不正常,進水條件在短時間內(nèi)就會發(fā)生變化。

              反沖洗對于防止大顆粒對某些型式反滲透膜件的堵塞是有效的。但不是所有的污染都可通過簡單的反沖洗就能清除掉,還需要有周期的化學(xué)清洗。化學(xué)清洗除需增加藥劑和人工費用外,還有污染問題,所以也不可過于頻繁,每月不應(yīng)超過1-2次,每次清洗時間約1-2h。化學(xué)清洗系統(tǒng)通常包括一臺化學(xué)混合箱和與之相配的泵、混合器、加熱器等。化學(xué)清洗常是根據(jù)運行經(jīng)驗來決定(可以根據(jù)每列設(shè)備壓降讀數(shù)與運行時間的關(guān)系曲線,或是依據(jù)產(chǎn)水量、淡水水質(zhì)和膜的壓降等)。






              請問超純水和去離子水是不是一回事?


              用途不同

                超純水的用途:

                電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品、單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件、高壓變電器的清洗等。

                去離子水的用途:

                實驗室、化驗室用水,一般實驗室的常規(guī)試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等;電子工業(yè)生產(chǎn),如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等;電力鍋爐,鍋爐所需軟化水、除鹽;






              EDI超純水設(shè)備的工作原理


              電去離子(Electrodeionization 簡稱EDI)是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù),它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進行電化學(xué)再生。

                EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場的作用下,淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移,陽離子透過陽離子交換膜,陰離子透過陰離子交換膜,分別進入濃水室形成濃水。






              超純水系統(tǒng)膜污染產(chǎn)生的原因


              金屬氧化物的沉積

                地下水中常含有鐵、錳等游離離子,它們與空氣或氧化劑接觸后,能被氧化成難溶膠體而堵塞膜孔,引起反滲透膜壓差上升,產(chǎn)水量下降。


              懸浮顆粒及膠體污染

                當(dāng)反滲透給水前處理系統(tǒng)中保安過濾器短路或發(fā)生故障時,保安過濾器失去過濾功能,進水中懸浮顆粒和膠體無法去除,反滲透本體進水濁度和於塞指數(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了反滲透給水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的范圍,致使懸浮顆粒及膠體在膜面上形成非晶體沉淀,堵塞反滲透膜進水通道,使膜受到污染。







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