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發布時間：2021-08-18 12:47
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真空鍍膜的膜層厚度如何測量？
在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?
直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控制循環驅動擋板，保持蒸發速率。
只要將儀器與系統控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精準度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。
此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
光學監控是高精密鍍膜的的優選監控方式，這是因為它可以更精準地控制膜層厚度(如果運用得當)。
精準度的改進源于很多因素，但根本的原因是對光學厚度的監控。
真空鍍膜技術的優點分析
真空鍍膜技術優點表現在哪里？真空鍍膜技術在塑料制品上的應用廣泛，真空鍍膜機廠表示，塑料具有易成型，成本低，質量輕，不腐蝕等特點，塑料制品應用廣泛，但因其缺點制約了擴大應用。通過真空鍍膜技術的應用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料結合起來，大大提高了它的物理、化學性能。真空鍍膜技術優點主要表現在以下幾個方面：
1、使塑料表面有導電性；
2、容易清洗，不吸塵。
3、改善美觀，表面光滑，金屬光澤彩色化，裝飾性大大提高；
4、減少吸水率，鍍膜次數愈多，孔愈少，吸水率降低，制品不易變形，提高耐熱性；
5、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜技術，硬度及耐磨性大大增加；
6、可以提高耐候性，一般塑料在室外會老化的非常快，主要原因是紫外線照射所致，而鍍鋁后，鋁對紫外線反射強，所以耐候性大大提高。
多功能真空鍍膜機是怎么構成的？
多功能真空鍍膜機是磁控濺射、多弧離子、蒸發鍍膜的混合性設備，是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩的長處，合適鍍各種復合膜。
多功能真空鍍膜機--磁控、中頻、多弧離子鍍膜具體介紹：
①蒸騰與磁控濺射的混合設備:多功能，合適量產，適應性強。
②磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用:多弧能夠進步炮擊清洗質量，添加薄膜與基材結合力。與磁控濺射一起作業可鍍制復合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。
③多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用:中頻靶更安穩（如Al），離化率高、堆積速率快、成膜均勻。中頻反應濺射如鍍制Si02、TiO2，一起鍍多層不一樣原料簿膜。
④射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用：射頻能夠直接鍍制絕緣保護膜如SiO2/Ag/SiO2
⑤圓柱弧、中頻、多弧的混合運用:柱弧確保高離化率的一起，削減大顆粒堆積的份額，到達有好的結合力又有較好表面光潔度的作用。多功能真空鍍膜機適用中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛浴潔具、飾品等。
卷繞真空鍍膜機結構設計應該注意的幾個問題
真空鍍膜機使用的行業不一樣，它的機型是不一樣的，那么它的結構設計也是有很大的差別。在設計真空鍍膜機的時，我們都是要考慮到很多因素，比如：要鍍的物件大小，使用的材質，以及它的熱點，和其他的一些細節注意事項等，都會影響真空鍍膜機的結構設計，那么卷繞真空鍍膜機結構設計應該注意那幾個問題呢？下面至成真空小編，為大家詳細介紹一下：
1、提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發展，卷繞速度有待提高。
2、帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。
3、帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產中斷，既影響生產效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。
卷繞鍍膜機真空抽氣系統分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵（油擴散泵的一種）為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數量級，非常適宜此類蒸發的鍍膜過程。
