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              真空鍍鈦加工價格專業團隊在線服務【金常來】

              發布時間:2020-12-17 18:57  

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              不同的不銹鋼表面處理工藝,能夠讓同樣的材質凸顯不同的視覺效果及手感特征。從設計的角度出發,需要了解下面這七種不銹鋼的表面處理工藝。1.PVD工藝PVD(PhysicalVaporDepsition)---物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。PVD基本方法:真空蒸發、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。



              PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類:PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數,可以控制鍍出的顏色;鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色進行測量,使顏色得以量化,以確定鍍出的顏色是否滿足要求。PVD鍍膜與傳統化學電鍍(水電鍍)的異同:PVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩定;



              PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。真空蒸鍍在真空條件下,采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質離子化,在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下,把蒸發物質或其反應物蒸鍍在工件上。


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