天津鋅系磷化加工工藝多重優惠「航天騰達」

電鍍工藝是利用電解的原理

電鍍工藝是利用電解的原理將導電體鋪上一層金屬的方法。電鍍是指在含有預鍍金屬的鹽類溶液中，以被鍍基體金屬為陰極，通過電解作用，使鍍液中預鍍金屬的陽離子在基體金屬表面沉積出來，形成鍍層的一種表面加工方法。電鍍是一種電化學過程，也是一種氧化還原過程.電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。例如鍍鎳時，陰極為待鍍零件，陽極為純鎳板。

單金屬電鍍至今已有170多年歷史,元素周期表上已有33種金屬

單金屬電鍍至今已有170多年歷史，元素周期表上已有33種金屬可從水溶液中電沉積制取。常用的有電鍍鋅、鎳、鉻、銅、錫、鐵、鈷、鎘、鉛、金、銀等l0余種。在陰極上同時沉積出兩種或兩種以上的元素所形成的鍍層為合金鍍層。合金鍍層具有單一金屬鍍層不具備的組織結構和性能，如非晶態Ni—P合金，相圖上沒有的各蕊sn合金，以及具有特殊裝飾外觀，特別高的抗蝕性和優良的焊接性、磁性的合金鍍層等。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發金屬或化合物的方法，通過將蒸發的原子或分子應用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業應用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

金屬表面磷化處理可以減少金屬被腐蝕的風險

磷化前表調的目的：表調又稱表面調整，通過調整，可以改善工件表面的微觀狀態，從而改善磷化膜外觀，結晶細小，均勻，致密，進而提高涂膜性能，以及提高磷化速度。金屬表面磷化處理工藝，主要是給金屬提供保護能力。在一定程度上，金屬表面磷化處理可以減少金屬被腐蝕的風險。在涂裝工藝中，金屬表面磷化處理能有效提高漆膜的結合力，增強耐腐蝕性能。