鹽城鍍膜機(jī)廠家報價「多圖」

常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

雖然薄膜的光學(xué)現(xiàn)象早在17世紀(jì)就為人們所注意，但是把光學(xué)薄膜作為一個課題進(jìn)行專門研究卻開始于20世紀(jì)30年代以后，這主要因為真空技術(shù)的發(fā)展給各種光學(xué)薄膜的制備提供了先決條件。發(fā)展到今日，光學(xué)薄膜已得到很大發(fā)展，光學(xué)薄膜的生產(chǎn)已逐步走向系列化、程序化和專業(yè)化，但是，在光學(xué)薄膜的研究中還有不少問題有待進(jìn)一步解決，光學(xué)薄膜現(xiàn)有的水平在不少工作中還不能滿足要求，需要提高。在理論上，不但薄膜的生長機(jī)理需要搞清光學(xué)薄膜，而且薄膜的光學(xué)理論，特別是應(yīng)用于極短波段的光學(xué)理論也有待進(jìn)一步完善和改進(jìn)。在工藝上，人們還缺乏有效的手段實現(xiàn)對薄膜淀積參量的精準(zhǔn)控制，這樣，薄膜的生長就具有一定程度的隨機(jī)性，薄膜的光學(xué)常數(shù)、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性，這一切都限制了光學(xué)薄膜質(zhì)量的提高。所以，光學(xué)薄膜發(fā)展至今也可以說是一個飛躍性的進(jìn)步了，今天首先賡旭光電小編和大家一起來認(rèn)識一下生活當(dāng)中常見的幾種光學(xué)薄膜。

一，減反射膜：又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。

簡單的增透膜是單層膜，它是鍍在光學(xué)零件光學(xué)表面上的一層折射率較低的薄膜。當(dāng)薄膜的折射率低于基體材料的折射率時,兩個界面的反射系數(shù)r1和r2具有相同的

光學(xué)薄膜：位相變化。如果膜層的光學(xué)厚度是某一波長的四分之一，相鄰兩束光的光程差恰好為π,即振動方向相反，疊加的結(jié)果使光學(xué)表面對該波長的反射光減少。適當(dāng)選擇膜層的折射率，使得r1和r2相等，這時光學(xué)表面的反射光可以完全消除。

一般情況下，采用單層增透膜很難達(dá)到理想的增透效果,為了在單波長實現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達(dá)到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。圖1的a、b、c分別繪出Kg玻璃表面的單層、雙層和三層增透膜的剩余反射曲線。

真空鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學(xué)儀器中的光學(xué)系統(tǒng)都由多個透鏡組成，光線要經(jīng)玻璃界面，會有相當(dāng)多的光線被反射掉，透過的光線很少，影響光學(xué)儀器的光學(xué)效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過率，往往在玻璃表面沉積增透膜來提高光的透過率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學(xué)儀器、激光器、波導(dǎo)管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質(zhì)膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護(hù)膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質(zhì)反射膜。其結(jié)構(gòu)是在基片上交替沉積光學(xué)厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴(kuò)散泵返油對玻璃的污染。同時可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴(kuò)散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強(qiáng)度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強(qiáng)度B，因為水平磁場強(qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數(shù)值。而實際生產(chǎn)過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗證。

減少真空鍍膜機(jī)中灰塵的方法

如今真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)在生活中隨處可見，但真空鍍膜機(jī)在日常使用中，經(jīng)常累積上一層灰塵，這影響到后期鍍膜的整體效果，那么日常有哪些方法能減少真空鍍膜機(jī)中的灰塵呢？由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響，因此未來避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用過程中注意以下幾點來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

（1）真空鍍膜機(jī)一段時間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理；

（2）真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物；

（3）工作人員在操作時需要戴手套、鞋套等，要有規(guī)范的服裝，以保證平時工作中的清潔；

（4）真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求；

（5）設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題；

（6）設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求；