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鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統時，在鍍膜任一側的兩個接口指數更改處將出現反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現。

多層減反增透膜在工藝上一般有以下特點：

（1）一般在鏡頭的片的第二面或第二片上鍍多層減反膜，以增加裝飾效果。多層寬帶減反增透膜以翠綠色較多，比較美觀。

（2）一般在曲率半役較大的表面上鍍多層膜，以便在工藝上使多層膜的膜色保證均勻。

（3）一般在低折射率材料的鏡片上鍍膜。對單層減反膜而言，低折射率基底的減反效果不如高折射率基底的減反效果。而對多層膜而言，多層膜的設計可以在不同折射率基底的材料上實現幾乎相近的減反效果。

（4）根據經驗，鍍膜面數在16個左右時，選用2個面鍍多層膜；鍍膜面數在10個左右時，選用一個面鍍多層膜即可基本滿足技術要求。選用多層減反膜，一般在同牌號的玻璃，或折射率接近的不同基底上實施。這樣可以只設計一種多層膜膜系。更重要的是，從工藝實施上更為方便，從品質保證上更為有利。

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍

真空鍍膜機鍍膜層厚度范圍 真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2，可以在這個范圍內選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室，左下室和右下室。蒸鍍時，兩組蒸發源蒸發的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側，裝上輝光放電發生器。發生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。