昆山掩膜板信息推薦 光刻版廠

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掩膜是一種圖像濾鏡的模板，實(shí)用掩膜經(jīng)常處理的是遙感圖像。當(dāng)提取道路或者河流，或者房屋時(shí)，通過一個(gè)n*n的矩陣來對(duì)圖像進(jìn)行像素過濾，然后將我們需要的地物或者標(biāo)志突出顯示出來。這個(gè)矩陣就是一種掩膜。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

光刻（英語：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。③結(jié)構(gòu)特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結(jié)構(gòu)特征。