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發布時間：2021-04-11 09:31
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真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表面處理的不足，且各項技術指標都優于傳統工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。催化液和傳統處理工藝相比，在技術上有哪些？
1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大降低了成本。
2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經任何處理。
3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國家環保產品技術。
4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復雜的金屬基件都能處理。
5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。
6、多弧離子鍍膜不會生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。
多功能真空鍍膜機是怎么構成的？
多功能真空鍍膜機是磁控濺射、多弧離子、蒸發鍍膜的混合性設備，是在多弧離子鍍膜機的基礎上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩的長處，合適鍍各種復合膜。
多功能真空鍍膜機--磁控、中頻、多弧離子鍍膜具體介紹：
①蒸騰與磁控濺射的混合設備:多功能，合適量產，適應性強。
②磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用:多弧能夠進步炮擊清洗質量，添加薄膜與基材結合力。與磁控濺射一起作業可鍍制復合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。
③多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用:中頻靶更安穩（如Al），離化率高、堆積速率快、成膜均勻。中頻反應濺射如鍍制Si02、TiO2，一起鍍多層不一樣原料簿膜。
④射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用：射頻能夠直接鍍制絕緣保護膜如SiO2/Ag/SiO2
⑤圓柱弧、中頻、多弧的混合運用:柱弧確保高離化率的一起，削減大顆粒堆積的份額，到達有好的結合力又有較好表面光潔度的作用。多功能真空鍍膜機適用中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛浴潔具、飾品等。
光學鍍膜機電子槍打火問題是怎么引起的,該如何減少次數呢?
很多人對光學鍍膜機電子槍打火問題很疑惑，不知道是什么原因產生的，也不知道該如何減少這種情況的發生，今天至成真空小編為大家講解一下光學鍍膜機電子槍打火問題是怎么引起的？
電子槍在蒸鍍時，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發材料的蒸汽發生碰撞產生的離子轟擊帶負電高壓電極及其引線，即產生打火。另外，若這些帶負高壓電的部分有塵粒等雜物，會使該處電場集中了容易打火。故電子束蒸鍍設備的高壓電源都附有高壓自動滅弧復位裝置，在打火非常嚴重時才會自動切斷高壓，然后又自動恢復，切斷與恢復的時間愈短，愈不會影響蒸鍍工藝。
那么，在安裝和使用的過程中，該如何才能減少打火次數。首先、高壓引線應盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來彎去。然后，槍頭金屬件和引線定期用細砂紙打光，然后清洗干凈。上螺釘的螺孔定期用絲錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。接著，所有陶瓷件污染后應予更換。電子槍體應可靠接地。對放氣量大的材料應充分預熱以徹底除氣。蒸鍍時功率要合適，不可過高造成材料飛濺。高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經常檢查，以免增大接觸電阻造成發熱而燒壞。蒸發檔板應高于蒸發源70mm.1
