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發(fā)布時間:2020-12-31 02:14  
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我司從事機(jī)電自動化,光電存儲媒體,半導(dǎo)體,醫(yī)liao,太陽能電池板,玻璃鍍膜,科學(xué)研究所等真空鍍膜設(shè)備維修,銷售,設(shè)計,開發(fā)及系統(tǒng)工程,軟件開發(fā),leybold,Pfeiffer,Alcatel,Agilent(Varian),BOC Edwards,Osaka,ULVAC,Shimadzu等一線品牌分子泵,真空泵,真空計專業(yè)維修保養(yǎng)/銷售等業(yè)務(wù)。旋片真空泵的清洗為了清潔旋片真空泵而沒有明顯的故障,泵一般不拆卸,只有舊油和污垢從排油孔排出,新的真空泵油(用于清洗)從帶漏斗的進(jìn)氣口。
廣州潽拓光電——出售Edwards AIM真空規(guī)
Edwards有源倒磁控管真空規(guī)(AIM)在一個緊湊的有源裝置中內(nèi)置了真空探頭和控制器。從科學(xué)儀器到工業(yè)流程的多種應(yīng)用場合,均已證明該真空規(guī)堅固可靠。
AIM真空規(guī)具有線性輸出,易于與計算機(jī)或PLC集成使用。
應(yīng)用范圍:
-普通真空
-鍍膜機(jī)
-真空爐
-科學(xué)儀器
-半導(dǎo)體
性能特點:
驅(qū)動電路已嵌在真空探頭內(nèi),簡化了系統(tǒng)設(shè)計并能節(jié)省寶貴的機(jī)架空間
低輸出阻抗和集成的法拉第屏蔽,具有很強(qiáng)的抗噪性,允許使用長電纜傳輸(可chang達(dá)100m)
低磁場型XL適用于靈敏應(yīng)用,如質(zhì)譜分析和電子顯微鏡
管體可更換,允許快速更換管件而無需預(yù)校準(zhǔn)
通過CSA、C/US認(rèn)可應(yīng)用范圍普通真空鍍膜機(jī)真空爐科學(xué)儀器半導(dǎo)體
廣州潽拓光電科技有限公司從事高真空設(shè)備研制、生產(chǎn)、銷售、工程安裝及售后維修服務(wù)于一體的綜合性企業(yè),由從事多年真空系統(tǒng)開發(fā),真空設(shè)備技術(shù)研發(fā),維修工程師,工程師組成的一支技術(shù)實力雄厚,充滿活力的高素質(zhì)團(tuán)隊。
產(chǎn)品詳情:
品牌:愛德華 泵型號:NEXT400D 極限壓力:6 x 10-8pa
抽氣速率:400l/s 驅(qū)動方式:電動 輸送介質(zhì) :清水泵
電壓:24V 流量:400m3/h 功率:0.16kw
真空度:高真空度 da工作壓強(qiáng):6 x 10-8 抽氣量:400
泵軸位置:邊立式 重量:9.8kg 葉輪數(shù)目:多級
原理:真空泵 性能:自動 用途:化工
泵材質(zhì):不銹鋼 類型:氣體傳輸 排出口徑DN25mm

廣州潽拓光電主要從事機(jī)電自動化,光電存儲媒體,半導(dǎo)體,太陽能電池板等真空鍍膜設(shè)備維修,銷售,設(shè)計,開發(fā)及系統(tǒng)工程,軟件開發(fā),承接等,是leybold,Pfeiffer,Alcatel,Agilent(Varian)等一線品牌分子泵專業(yè)維修廠商。一般電鏡正常工作需要低真空度為10-4-10-5torr(1torr=1mmhg=133。
廣州潽拓光電主要從事機(jī)電自動化,光電存儲媒體,半導(dǎo)體,太陽能電池板等真空鍍膜設(shè)備維修,銷售,設(shè)計,開發(fā)及系統(tǒng)工程,軟件開發(fā),承接等,是leybold,Pfeiffer,Alcatel,Agilent(Varian)等一線品牌分子泵專業(yè)維修廠商。廣州潽拓光電科技有限公司從事高真空設(shè)備研制、生產(chǎn)、銷售、工程安裝及售后維修服務(wù)于一體的綜合性企業(yè),由從事多年真空系統(tǒng)開發(fā),真空設(shè)備技術(shù)研發(fā),維修工程師,工程師組成的一支技術(shù)實力雄厚,充滿活力的高素質(zhì)團(tuán)隊。
質(zhì)譜儀分子泵專業(yè)維修-廣州潽拓光電專業(yè)維修的 Edwards EXT400-300-30渦輪分子泵
美輪美奐的Edwards EXT400-300-30渦輪分子泵
Edwards EXT40020030ipx 渦輪分子泵專門用于Shimadzu Agilent ABI Bruker等質(zhì)譜儀,
廣州潽拓光電專業(yè)維修Edwards EXT40020030 ipx
美輪美奐的Edwards EXT400-300-30渦輪分子泵
潽拓——愛德華進(jìn)口分子泵維修,分子泵
愛德華STP-iXA3306CV_Edwards STP-iXA3306CV渦輪分子泵
EDWARDS STP-iXA3306CV分子泵用途:
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源,射束線泵送和站
金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和化物)
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
