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發布時間：2020-11-07 05:07
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Parylene裂解儀
Parylene用獨特的真空氣相沉積工藝（CVD技術）制備，由活性小分子在基材表面'生長'出完全敷形的聚合物薄膜涂層，它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，號稱'無孔不入'可深入裂縫里和內表面。這種真空狀態下室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無、透明無應力、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性，甚至被業內稱為當今世界的防潮、防霉（零級）、防腐、防鹽霧的特殊防護涂層。派瑞林鍍膜加工的優勢：可以抗酸堿腐蝕，可以抗溶解（在普通的溶劑中不會被溶解）。Parylene涂層在具備以上優異防護性能基礎上,尤其還具有良好的生物兼容性,生物穩定性，并有優異的自潤滑性,涂層均勻可控性,以及好的物理機械性能。
1.一腔體，采用SUS304不銹鋼艙體有效鍍膜空間 ≧ 直徑300mm x 高度350mm，腔體設有觀景窗, 采用掀蓋式腔蓋并設有把手以便腔蓋開閉。
2. 旋轉平臺，可承載重量: 20公斤,旋轉速度: 0.5至10 rpm。
3. 油式泵浦，抽氣速度 ≧ 200L/min ; 壓力 ≦ 5*10-3Torr。
4. 控制系統，采用具PID功能之溫控模塊及高的精度溫度傳感器，系統可進行自動或半自動(溫控/真空)操作,并可儲存與選擇Recipe 。
5. 附屬冷凝機，溫度 ≦ -90℃
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鈣鈦礦鍍膜設備
以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享電阻熱蒸發鍍膜產品的相關內容，希望對同行業的朋友有所幫助！
設備用途 ：
適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作。廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域
設備組成：
該設備主要由沉積室、真空排氣系統、真空測量、蒸發源、樣品加熱、電控系統、等部分組成。
1、鍍膜室：方形前后開門結構，內帶有防污板。
2、真空度：鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa；
3、蒸發源系統：有機源蒸發源4個，無機蒸發源2套
4、樣品架系統：樣品大小為Φ150mm的樣品，旋轉速度為：0～30轉/分；
5、樣品在鍍膜過程中，可烘烤加熱，加熱溫度為：室溫～190℃，測溫控溫。
6、膜厚控制儀：測量范圍0-999999?
