東城真空鍍膜公司來(lái)電咨詢 泰坦金屬制品有限公司

電鍍是指利用電解原理使金屬表面鍍上一層其他金屬薄膜，電鍍的應(yīng)用非常廣泛，主要應(yīng)用于：首飾行業(yè)、工業(yè)產(chǎn)品、機(jī)械配件、部件、零件、線管等方面。常見電鍍金、電鍍銀這兩種電鍍工藝相差不大，都廣泛應(yīng)用于首飾和工業(yè)方面。

雖然使用PVD鍍膜技術(shù)能夠鍍出的膜層，但是PVD鍍膜過(guò)程的成本其實(shí)并不高，它是一種非常高的表面處理方式，所以近年來(lái)PVD鍍膜技術(shù)發(fā)展得非常快。PVD鍍膜已經(jīng)成為五金行業(yè)表面處理的發(fā)展方向。

  真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。以便讓大伙兒更詳盡地掌握真空泵建筑涂料的運(yùn)用，今日的小規(guī)格關(guān)鍵點(diǎn)為您詳細(xì)介紹真空泵建筑涂料運(yùn)用的幾類關(guān)鍵方式，期待有用！

   真空泵鍍層的運(yùn)用，簡(jiǎn)易的理解是在抽成真空中，選用揮發(fā)、無(wú)心插柳和接著的縮合反應(yīng)方式，在金屬、夾層玻璃、瓷器、半導(dǎo)體材料和塑膠構(gòu)件以及他涂有陶瓷膜或覆蓋層的物塊中。

真空鍍膜--磁控濺射鍍膜技能

一、磁控濺射鍍膜－濺射原理：

1.使chamber到達(dá)真空條件，一般控制在(2~5)E-5torr

2.chamber內(nèi)通入Ar，并啟動(dòng)DC power

3.Ar發(fā)作電離：Ar ? Ar ＋ e-

4.在電場(chǎng)效果下，（電子）會(huì)加快飛向anode（陽(yáng)極）

5.在電場(chǎng)效果下，Ar 會(huì)加快飛向陰極的target（靶材），target粒子及二次電子被擊出，前者到達(dá)substrate（基片）表面進(jìn)行薄膜生長(zhǎng)，后者被加快至陰極途中促成更多的電離。

6.筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近，延長(zhǎng)其在等離子體中的運(yùn)動(dòng)軌道，進(jìn)步它參與氣體分子磕碰和電離過(guò)程的幾率的效果。