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              發(fā)布時間:2021-06-20 08:15  

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              鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響:

              靶基距:靶基距是影響成膜速率的重要因素之一,隨著靶基距增加,被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數(shù)增多,同時等離子體密度也減弱,動能減少,沉積速率降低,但膜層外觀較好。靶基距太小,沉積太快,工件溫升大,膜層外觀差

              輝光清洗:對工件施加負偏壓,產(chǎn)生輝光放電,利用ya離子轟擊工件表面,這種輝光放電清洗作用比較柔和,一般采取由弱到強的轟擊清洗順序,是怕工件太臟時一開始就強轟擊,可能產(chǎn)生強烈的打火而損傷工件。


              佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家,公司秉承“以質取勝,求真務實,顧客至上”理念,歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

              真空鍍膜的形式:蒸發(fā)鍍膜

              工藝原理:

              1)在真空室中,膜料被加熱變成蒸發(fā)原子,蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣

              體分子碰撞而到達工件表面;

              2)蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

              3)吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴散。


              有機鍍膜與無機鍍膜的根本區(qū)別

              真正的玻璃鍍膜應為純無機質成分,成膜后不應含有任何j基團(CH3)。利用紅外線光譜吸收分析法,可以了解各種鍍膜原料的內部化學成分,這是區(qū)別真假無機質鍍膜產(chǎn)品的重要科學依據(jù)。