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鍍硬鉻鑄鐵工件大量析氫，無鍍層

可能原因及處理方法工件鍍前腐蝕過度。用兩倍的電流（DK=80～120A/dm2）沖擊鍍3min，再恢復到正常電流電鍍（DK=40～60A/dm2）；縮短浸蝕時間或降低浸蝕液濃度。

陽極浸蝕時間過長。用2倍的電流（DK=80～120A/dm2）沖擊鍍3min，再恢復到正常電流電鍍（DK=40～60A/dm2）；縮短陽極浸蝕時間（控制在15～30s）.

沒有使用沖擊電流施鍍。用2倍的電流（DK=80～120A/dm2）沖擊鍍3min,再恢復到正常電流電鍍（DK=40～60A/dm2）。

鍍硬鉻局部表面無鍍層

產生原因：

①氧化物不導電

②接觸不良，掛具導電體截面積太小

③鍍件表面的孔眼未絕緣

④槽底部位陽極有碰電現象

⑤鑄件粗糙度高，采用的沖擊電流太小

排除方法：

①用鋼絲刷刷除或用堿液陰極電解除去

②正確計算導電截面積

③保持觸點良好

④孔眼中應涂絕緣漆或塞塑料管，排除碰電原因

⑤提高鑄件表面光潔度，加大沖擊電流

電鍍硬鉻工藝會導致嚴重的環境問題，鍍鉻工藝使用的鉻酸溶液，會產生含鉻酸霧和廢水，而且還有其它一些缺點，如：硬度一般為800~900HV，硬度比一些陶瓷和金屬陶瓷材料低，且硬度還會隨溫度升高而降低；鍍鉻層存在微裂紋，不可避免產生穿透性裂紋，導致腐蝕介質從表面滲透至界面而腐蝕基體，造成鍍層表面出現銹斑甚至剝落；電鍍工藝沉積速度慢，鍍0.2~0.3mm厚的鍍層往往需要2~3個班的時間，也不利于厚鍍層的應用。

因此，研究領域一直努力尋找替代電鍍硬鉻的新工藝。目前已出現許多新工藝并得到應用和發展。