稀土拋光粉生產工藝多重優惠「康運復合材料」

（氧化鐵）是歷早使用的拋光材料，但它的拋光速度慢，而且鐵銹色的污染也無法消除。隨著稀土工業的發展，于二十世紀30年代，首先在歐洲出現了用稀土氧化物作拋光粉來拋光玻璃。在第二次中，一個在伊利諾斯州羅克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇員，于1943年提出了一種叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物拋光粉，這種拋光粉很快在拋光精密光學儀器方面獲得成功。由于稀土拋光粉具有拋光、質量好、污染小等優點，激起了美國等國家的群起研究。這樣，稀土拋光粉就以取代傳統拋光粉的趨勢迅速發展起來。






此外，稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產技術屬于微粉工程技術，稀土拋光粉屬于超細粉體，國際上一般將超細粉體分3種：納米級（1nm~100nm）；亞微米級（100nm~1μm）；微米級（1μm~100μm），據此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的后工序，進行精磨






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發階段。

　　主要指標：產品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉化成w（CeO2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產品。主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。