汽車真空鍍膜設備優選企業「多圖」

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。 

真空鍍膜機工作的環境要求：       

真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。真空對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面要求兩個方面。

工藝特點

（1）廣泛應用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機涂層材料等。

（2）在產量方面，從單件到大批量皆可。

（3）有質量優勢，沉積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻性，重復性好，臺階覆蓋性優良。

（4）工具涂層的生產效率不如PVD，具體取決于特定技術要求和輔助工藝。

4、適用材料

化學氣相沉積曾是真空技術廣泛用于陶瓷沉積的一種技術，特別是對工具涂層更是這樣。

20世界80年代早期隨著等離子體輔助PVD工藝的顯露，CVD在工具方面的應用衰落了。但由于這種工藝具有非常好的滲入特性，其在CVI、ALE等領域的工藝中有著很好的應用前景，主要用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機涂層材料。

PCVD的工藝裝置由沉積室、反應物輸送系統、放電電源、真空系統及檢測系統組成。氣源需用氣體凈化器除往水分和其它雜質，經調節裝置得到所需要的流量，再與源物質同時被送進沉積室，在一定溫度和等離子體等條件下，得到所需的產物，并沉積在工件或基片表面。所以，PCVD工藝既包括等離子體物理過程，又包括等離子體化學反應過程。