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中國國內需求猛增，氟石出口下降，這給國外生產廠帶來原料供應困難。氫氟酸是弱酸，簡單的說是因為F對電子吸引力強（元素中最強的），導致負電荷高度集中，由于HF中的H顯正電性，所以由于靜電力的作用而難以電離，所以HF是弱酸。在此情況下，一些國外生產公司采取與中國氟石生產廠建合資企業的舉措，以確保原料就地獲得快捷可靠供應。例如，日本的森田(Morita)化學工業公司于去年11月在浙江組建合資企業，并于今年9月建成廠投產運轉。一期工程投資600萬美元，建成3套裝置合計產能為1.5萬噸/年。此外，該合資企業還將年生產5000噸氟烴141b和2000噸其他氟化物。

　 目前氟烴及其衍生物約占HF總消費量的50%以上。氫氟酸下游制冷劑市場，R22價錢從2010年初的每噸7000元，一路攀升至2010年12月時的22000元，2011年1月下旬R22主流出廠報價在24000元/噸。在需求快速增長的推動下，2004年這些衍生物生產裝置都以高開工率運轉。霍尼韋爾公司人士指出，北美地區因氟烴替代物需求增加，正促使HF消費持續增長。對該公司來說，氫氟烴致冷劑等衍生物是拉動HF需求增長的重要動力之一，但所用氟石等原材料漲價對其經濟效益卻帶來不利影響。廣州潔瓏化工專業批發：福建永飛，50%、55%，45%，40%，35%，大量批發。

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氫氟酸就會使依賴上述兩種離子起作用的失去作用。建議操作人員佩戴自吸過濾式防毒面具，穿橡膠耐酸堿服，戴橡膠耐酸堿手套。接觸氫氟酸可能不會引起疼痛，而癥狀可能會在氫氟酸和骨骼中的鈣發生反應幾個小時后才會發生，可能對人體造成的傷害是不可小看的，其暴露途徑包括皮膚及粘膜接觸、呼吸道吸入及腸胃道攝入，如果皮膚接觸到50%以上較高濃度的氫氟酸，會立即引起疼痛、泛白、反應，1至2小時內產生水泡，6至24小時內壞死及潰爛，如果接觸到10%以下較低濃度者，往往在6小時或更長時間才會出現疼痛等癥狀，因此常被當事人忽視，導致性傷害，無法更好地觀察液位高度。嚴重時甚至會導致安全事故。因此，在制作測量氫氟酸液位的磁性翻板液位計的面板時，必須選擇亞克力作為磁性翻板液位計顯示面板的窗戶材料。

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氫氟酸中的氫離子對人體組織有脫水和腐蝕作用，氟是活躍的非金屬元素之一。也經常用于生產便于包裝:除去不銹鋼表面的含氧雜質的浸酸過程中也會用到氫氟酸。皮膚接觸氫氟酸后，氟離子不斷解離，滲入深層組織，溶解細胞膜，氟化物中的陰離子會與氫離子分離，由于氟離子半徑，很容易穿透人體細胞膜，所以滲透速度極快，可迅速在體內造成損傷，并進入體內，造成全身傷害。

用沙土，干石灰或蘇打灰混合。還可用大量的水沖洗，洗凈后放入廢水系統。

重大泄漏：筑起圍堤或挖坑；用泵移至槽車或收集器中，或送至廢物處理場進行處置。

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氫氟酸質子的物質很少，在無水氫氟酸中有許多酸性化合物，而無水氫氟酸則呈堿性或。立即用大量水進行長時間沖洗，盡快稀釋并沖走氫氟酸。2010年的氫氟酸市場對將來五年氟化工的開展定下的基調，將影響整個氟化工市場。它是的措施，的關鍵。總的原則是使用一些可溶性的鈣鎂鹽類制劑，使它們與氟離子結合，形成不溶性的氟化鈣或氟化鎂，采用石灰水浸泡或濕敷，易于推廣。

但比氟磺酸弱。腐蝕性強，嚴重損害牙齒和骨骼。硅化合物腐蝕性強。應該儲存在密封的塑料瓶里。

在水中溶解HF(氟化氫)。用來雕刻玻璃，清洗鑄件上的殘砂，控制發酵，電拋光，清洗腐蝕半導體硅片(與HNO3混酸)。

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在低濃度下，氫氟酸也會以極快的速度滲入組織(遠快于其他礦物質酸)，所以一旦暴露，肯定會侵入組織，必須去醫院(相比之下，用水沖洗后發現沒有起泡，可以放心)。

二是作用范圍大。氫氟酸進入人體后會進入血液循環，影響全身組織，尤其是骨骼。氫氟酸的毒理主要是攻擊鈣離子形成不溶性氟化鈣。無水氫氟酸，是一種用途廣泛的化工產品，外觀為無色發煙液體的99%以上的氫氟酸，在減壓或高溫下易氣化。急性反應包括快速降低血鈣，導致甚至心臟驟停。氫氟酸是一種弱酸，其強度與甲酸相似。市場上銷售的氫氟酸濃度一般為30%~50%。氫氟酸除銹的主要特點能溶解含硅化合物，對鋁、鉻等金屬氧化物也有較好的溶解能力，常用于浸蝕鑄件、不銹鋼等工件。

對于鋼、鐵工件，低濃度氫氟酸可用于除銹。氫氟酸水溶液濃度為70%，可鈍化鋼鐵。

濃度約為10%的氫氟酸對鎂及其合金的腐蝕較弱，因此常用于鎂工件的腐蝕。

鉛一般不被氫氟酸腐蝕；鎳在濃度超過60%的氫氟酸水溶液中具有耐強度。

氫氟酸毒性大，揮發性強。使用時，應防止人體接觸氫氟酸液和氟化氫氣體。腐蝕槽應密封并有良好的通風裝置，含氟廢水處理后才能排放。

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氫氟酸的35.35%是共沸混合物。毒性致死量為25毫克/公斤。具有腐蝕性，強烈腐蝕金屬、玻璃和含硅物體。的能力在鋁和鈾的純化中起著重要作用。例如，日本的森田(Morita)化學工業公司于去年11月在浙江組建合資企業，并于今年9月建成氫氟酸廠投產運轉。氫氟酸也用于蝕刻玻璃，可以雕刻圖案，標記刻度和文字的半導體工業用于去除硅表面的氧化物，在煉油廠用于異丁烷和正丁烯化反應的催化劑，在去除不銹鋼表面的氧雜質的浸泡過程中也用于氫氟酸。維持呼吸暢通。在呼吸困難時給予輸氧，不能進行人工呼吸，可導致進行呼吸者本人吸入氟化氫氣體。使用2-4%的碳酸氫鈉溶液進行霧化吸入。實行隔離，嚴格限制出入。