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真空腔體

一般真空腔體內(nèi)部是規(guī)則的長(zhǎng)方體,用一面加熱進(jìn)行熱輻射的方式熱傳導(dǎo)不能合理涵蓋整個(gè)腔體的內(nèi)部空間,所以效果不是很理想,.經(jīng)過試驗(yàn)論證,采取在真空腔體內(nèi)正上方、正下方、左側(cè)面、右側(cè)面各安裝一套加熱板加熱的方法,采用面對(duì)面熱輻射方式對(duì)腔體內(nèi)部進(jìn)行加熱.

由于設(shè)備在真空狀態(tài)下采用了上,下,左,右四面四路加熱的方法,比單純一路加熱就要復(fù)雜多了,這也是溫度控制的難點(diǎn).因此采用PID來進(jìn)行溫度控制調(diào)節(jié),控溫?zé)崤荚O(shè)置在腔體內(nèi)部,這樣可以更好地控制真空腔體內(nèi)的溫度.

真空腔體加工的注意事項(xiàng)

真空腔體是保持內(nèi)部為真空狀態(tài)的容器，真空腔體加工要考慮容積、材質(zhì)和形狀。

超高真空系統(tǒng)主要采用不銹鋼材質(zhì)。其中300系列不銹鋼(表1)是含Cr10%～20%的低碳鋼，具有優(yōu)良的抗腐蝕性、無磁性、焊接性好、導(dǎo)電率、放氣率低和導(dǎo)熱率低、能夠在-270～900℃工作等優(yōu)點(diǎn)，在高真空和超高真空系統(tǒng)中，應(yīng)用較廣。

為了減小腔體內(nèi)壁的表面積，通常用噴砂或電解拋光的方式來獲得平坦的表面。超高真空系統(tǒng)的腔體，更多的是利用電解拋光來進(jìn)行表面處理。

影響真空絕緣水平的主要因素

真空度

顯現(xiàn)了空隙擊穿電壓和氣體壓強(qiáng)之間的關(guān)系。表面分析腔有通用腔體，用戶也可以在通用腔體的基礎(chǔ)上進(jìn)行自定義設(shè)計(jì)。由圖可以看到真空度高于10-2Pa時(shí)，擊穿電壓基本上不再跟著氣體壓力的下降而增大，因?yàn)闅怏w分子碰撞游離現(xiàn)象已不復(fù)興效果。當(dāng)氣體壓力從10-2Pa逐步升高時(shí)(真空度下降)，擊穿強(qiáng)度逐步下降，以后又隨氣壓的而。從曲線上可以看出真空度高于10-2Pa時(shí)其耐壓強(qiáng)度基本上堅(jiān)持不變。這就標(biāo)明，真空滅弧室的真空度在10-2Pa以上時(shí)完全可以滿足正常的運(yùn)用需求。

真空腔體加工檢漏的辦法

一、真空封泥檢測(cè)法

用真空泥封住的漏點(diǎn)，此時(shí)要注意觀察真空度的改變，假如貼上真空泥之后真空度上升較快，拿掉之后又有了顯著的下降，這說明就是一個(gè)漏點(diǎn)哦。然而，這個(gè)辦法在實(shí)際檢測(cè)頂用的比較少

二、真空計(jì)檢漏法

部分真空計(jì)的讀數(shù)與氣體種類有關(guān)，例如電離真空計(jì)，熱偶計(jì)。真空設(shè)備常用于脫氣，焊接，制備薄膜涂層，生產(chǎn)半導(dǎo)體/晶圓、光學(xué)器件以及特殊材料等。用合適的氣體或許液體做示漏物質(zhì)，這些真空計(jì)就成了探測(cè)器，一般鍍膜機(jī)上都會(huì)有真空計(jì)，在實(shí)際使用中也是比較常用的檢漏辦法。熱偶計(jì)的示漏物質(zhì)有二氧化碳，丁烷，酒精等，熱偶計(jì)的反響比較慢，要仔細(xì)觀察。用于電離計(jì)的示漏物質(zhì)主要有氦，，酒精等。