上海AF真空鍍膜設備詢問報價「至成真空科技」

常用的光學鍍膜有哪些？

分光膜

根據一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。分光膜主要包括波長分光膜、光強分光膜和偏振分光膜等幾類。

波長分光膜又叫雙色分光膜，顧名思義它是按波長區域把光束分成兩部分的薄膜。這種膜可以是一種截止濾光片或帶通濾光片，所不同的是，波長分光膜不僅要考慮透過光而且要考慮反射光，二者都要求有一定形狀的光譜曲線。波長分光膜通常在一定入射角下使用，在這種情況下,由于偏振的影響，光譜曲線會發生畸變,為了克服這種影響，必須考慮薄膜的消偏振問題。

光強分光膜是按照一定的光強比把光束分成兩部分的薄膜，這種薄膜有時僅考慮某一波長，叫做單色分光膜；有時需要考慮一個光譜區域叫做寬帶分光膜；用于可見光的寬帶分光膜，又叫做中性分光膜。這種膜也常在斜入射下應用，由于偏振的影響，二束光的偏振狀態可以相差很多,在有些工作中，可以不考慮這種差別,但在另一些工作中（例如某些干涉儀），則要求兩束光都是消偏振的，這就需要設計和制備消偏振膜。

真空鍍膜機真空的清洗方法,你知道嗎?

真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統材料表面清除所不期望的物質的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一．真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發雜質蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣

二．紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加．

AF光學鍍膜機

該設備是至成鍍膜機廠家真空針對數碼光電行業視窗鏡片及殼料加工推出的新型真空鍍膜設備，目標對準行業當前對手機屏幕視窗蓋板、鏡頭視窗鏡片、殼體及五金件的真空涂層性能更高要求的解決方案：

性能和產率：提高AF(防指印或稱AS防污染)真空膜層的性能，并通過提高設備產率和穩定性、降低材料消耗來大幅降低成本。

適用性：除手機、平板電腦、車載顯示器等觸控產品外，也適用于在其他數碼產品、電器、衛浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層，提高光滑度、易清潔性。

真空鍍膜設備作業時的應急預案很實用

真空鍍膜設備作業時的應急預案很實用 1、設備工作一段時間需清理打掃 設備工作一段時間，一般50到70爐次，需清理打掃，把粉塵清出爐外，然后空爐工作一次。工作的方式是先抽空為真空度高于10-2Pa時加熱，加熱溫度一般高于正常使用溫度的20℃。在高爐溫時保溫一個小時以上，然后自然冷卻。這樣使設備內部空間保持清潔。 2、更換充氣氣瓶 設備所用充氣氣瓶需更換時，拆掉穩壓閥，換上一瓶新氣，一定要注意安裝時不許漏氣。在換上新氣瓶后，在工件沒加熱前，應在抽空過程中對爐內充氣，以便在換氣瓶過程中造成的管路內存有的大氣抽出，使充氣管路保持清潔。