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玻璃上片切割一體機在行業(yè)中，起到了很大的作用，該設(shè)備的使用大大的縮短了所用的時間，而且還提高了效率給大家?guī)砹烁玫捏w驗。對于玻璃上片切割一體機來說的清洗也是很重要的環(huán)節(jié)。

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簡單的清洗劑只能清除表面污垢，但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機污染物，還對研磨粉等無機物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢，氣味小。

國內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較昂貴。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。在此不再贅述。玻璃上片切割一體機兩種清洗方式的比較溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法。

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