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發(fā)布時間：2020-07-19 21:00
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簡單地說，就是進(jìn)行了鍍鈦防銹處理，打磨了刃口更鋒利，同時沖口外側(cè)進(jìn)行了拋光，拔起來更輕松（鍍鈦后如不打磨，表面光潔度不夠，拔起來阻力太大，必須要再拋光）。
1. 外表面鍍鈦處理，防銹能力出色，比發(fā)黑的效果更好；
2. 整體沖口經(jīng)過精細(xì)打磨，鋒利整齊，外表光潔；
3. 沖口外側(cè)部分經(jīng)過拋光，沖孔后能輕松拔下；
4. 淬火工藝較好，硬度較高，能輕松在厚皮革上打孔。
5. 黑底白字，標(biāo)號更清晰。生銹了的spc沖子上面要辨認(rèn)標(biāo)號的痛苦都懂的。
PVD加工特點(diǎn)
1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間；
3).涂層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時；
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；大家在使用鍍鎳砂時一個主要困擾是：砂的鍍覆活性不穩(wěn)定，由此導(dǎo)致上砂質(zhì)量的波動。
磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.
1. 磁控濺射:
離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.
磁控濺射的基本原理:
磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場方向垂直的磁場,處于正交電場區(qū)E和磁場B中的電子的運(yùn)動方程,
