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發布時間：2021-09-08 23:50
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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫：(30±0.2)℃
3. 光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率：不大于0.007nm
5. 刻線密度：3600g/mm
6. 高頻發生器震蕩頻率：40.68MHz 功率穩定度：0.1%（長期25℃典型值）
7. 震蕩類型：自激式
8. 進樣方式：蠕動泵進樣
配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）
9. 霧1化器：同心霧化1器
10. 重復性：RSD ≤1.0%
11. 穩定性：RSD ≤2.0%（2小時）
12. 冷卻氣：10-20L/min
13. 輔助氣：0-1.5 L/min
14. 載氣：0.4-1L/min
15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）
16. 重量：240公斤
Plasma2000型電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。
鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。
鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀
Plasma2000電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發專項”支持下研發的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業協會“自主金獎”等一系列榮譽，在業界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業設計，優異穩定的測試性能源于納克近四十年ICP行業經驗。Plasma2000擁有
1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩健的檢測能力。
2、 有效穩定的自激式固態射頻發生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優異的長期穩定性。
3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。
4、 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
可廣泛應用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。
由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產品樣機將于年內完成；ICP質譜儀第二代研發樣機已成功組裝和調試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統、接口及離子傳輸系統以及射頻發生器系統3個關鍵、難點技術已經實現原理攻克。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發任務奠定了堅實的基礎。
