長沙真空鍍膜機(jī)廠家信賴推薦

影響鍍膜機(jī)磁控靶點火電壓的因素有哪些

靶材對點火電壓的影響

(1)陰極靶材的不同材質(zhì)，因濺射的能量閥值的不同，一般濺射“逸出功”較小的陰極靶材，其點火電壓和工作的電壓要低一些，反之則會高一些。(2)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵等)和鐵素體靶材，會偏轉(zhuǎn)和減少陰極濺射靶面磁場對磁控靶造成影響。靶面磁場的降低，使磁控靶需要很高的電壓才能點火起輝。(3)點火電壓與磁控靶靶材濺射面積和真空腔體的機(jī)械尺寸大小有關(guān)。靶材濺射面積大，或是真空腔體的機(jī)械尺寸大，相應(yīng)充入工作氣體的數(shù)量值較多，在同一陰-陽極電壓下，工作氣體例如氣電離出導(dǎo)電正離子和電子亦增多，導(dǎo)致點火電壓下降(在鍍膜時還會造成磁控靶濺射電壓一定程度上的降低)。

磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓

(1)靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大,其輸出的空載電壓越接近偏小值。(3)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數(shù)值。

瓷磚真空鍍膜設(shè)備

經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高，可以生產(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設(shè)備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設(shè)備主要配置為陰極電弧蒸發(fā)源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設(shè)備特點：配強大抽氣系統(tǒng)，抽氣快，裝載量大，產(chǎn)能高，生產(chǎn)成本低。可以生產(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術(shù)可以得到各種彩色花紋圖案。經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數(shù)大大提高。

PVD鍍膜技術(shù)目前主要應(yīng)用的行業(yè)

PVD鍍膜技術(shù)目前主要應(yīng)用的行業(yè),PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個領(lǐng)域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命;這方面主要應(yīng)用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)、各種模具等產(chǎn)品中。

影響鍍真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因

影響鍍真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因磁控靶點火電壓的幾個因素 在工作氣體種類、成分、氣壓和陰極材料已確定及其它條件不變的條件下，鍍膜機(jī)陰-陽兩極間的氣體放電點火電壓的高低可由巴-刑定律來說明，氣體點燃電壓Uz不僅和氣壓P、極間距d有關(guān)，而且和P與d的乘積有關(guān)(即Uz是P×d乘積的函數(shù)，不是單獨是P或d的函數(shù))。巴-刑曲線的左側(cè)與下側(cè)是不能形成自持放電區(qū)域;右上側(cè)是可以形成穩(wěn)定自持放電區(qū)域;磁控濺射通常工作在巴-刑曲線的左支。利用這個規(guī)律，在放電部件(磁控靶、引出電極等)的結(jié)構(gòu)設(shè)計中，通過調(diào)整結(jié)構(gòu)間隙的手段來控制各電極對屏蔽罩、金屬腔體間的放電和打弧。