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一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1～104的原子層或分子層。在此方向上，薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的，其他的兩維方向具有宏觀大小。所以，表示薄膜的形狀，一定要用宏觀方法，即采用長、寬、厚的方法。因此，膜厚既是一個宏觀概念，又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的，而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要嚴(yán)格地定義和測量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測量的方法和目的來決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實(shí)際存在的一個物理概念。

形狀膜厚：dT是接近于直觀形式的膜厚，通常以um為單位。dT只與表面原子（分子）有關(guān)，并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響；

質(zhì)量膜厚：dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少，通常以μg/cm2為單位，它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響（如缺陷、、變形等）；

物性膜厚：dP在實(shí)際使用上較有用，而且比較容易測量，它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無直接關(guān)系，主要取決于薄膜的性質(zhì)（如電阻率、透射率等）。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)與海內(nèi)外多名通力合作，研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

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鍍層是通過電鍍在機(jī)械制品上沉積出附著良好的，但性能和基體材料不同的金屬覆層。

電鍍層一般都比較薄，從幾十納米到幾十微米不等。通過電鍍，可以再機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層，還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件，鍍層厚度測量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測的重要一環(huán)，是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。金屬鍍層通常按鍍層的用途可把鍍層分為三大類，即防護(hù)性鍍層，防護(hù)一裝飾性鍍層和功能性鍍層。

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  X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時完成組分和厚度測試，厚度的測量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較，被測元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測元素和基材的組成有關(guān)，而且與厚度直接相關(guān)。能量色散X射線熒光光譜分析相對其他分析方法，具有無需對樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速，方便，測量成本低等明顯優(yōu)勢，特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過程控制和檢測使用。如果厚度由X射線吸收方法或比率方法確定，則厚度標(biāo)準(zhǔn)塊的基體應(yīng)與被測試樣的基體具有相同的X射線發(fā)射特性，通過比較被測試樣與校正參考標(biāo)準(zhǔn)塊的未鍍基體所選的特征輻射的強(qiáng)度，然后通過軟件達(dá)到對儀器的校正。是目前應(yīng)用為廣泛，具有速度快、無損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時分析等特點(diǎn)。