河北小型氦質譜檢漏儀服務為先「科創真空」

氦質譜檢漏儀的應用拓展

氦質譜檢漏儀的應用已從科學院、大專院校、實驗室及少數科研機構走向工礦企業，甚至鄉鎮企業、個體企業，可以說應用領域極其寬廣。

航空航天高科技工業

1）例如火箭發動機及姿態發動機，過去是打壓刷肥皂水檢漏，現在重新改進工藝用氦質譜檢漏儀檢漏，采用正壓吸槍與氦罩法結合，使檢漏靈敏度大大提高，從而保證了發動機質量。對于體積較大的工件，采用背壓發，按照工件體積的大小試用不同大小的檢漏罐。火箭箭體的檢漏采用正壓吸槍、氦罩法、累集法等幾種方法的結合。由于檢漏技術的應用，提高了檢漏靈敏度，彌補了吸入法檢漏時儀器靈敏度低的不足。

2）KM6空間環模裝置設備龐大，主真空室直徑12m、高22m，另外有輔助真空室和載人艙等。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。容積3500m3，分系統多，結構復雜，各種接口焊縫相加有幾千米長，采用氦質譜檢漏儀負壓檢漏，每條焊縫由檢漏盒密封，配以鋪助抽氣系統將盒內抽低真空后，充入一定壓力氦氣，關閉預抽閥，開啟檢漏閥。由于盒內氦濃度較高，相對檢漏儀又有一定壓力，因此有效提高了檢漏靈敏度。

3）航天工業中，衛1星、各類閥門、電子元器件，傳感器等等都在廣泛應用氦質譜檢漏儀及其檢漏技術。

如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢，科創真空竭誠為您服務！

氦質譜檢漏用氦氣的選擇

氦氣是一種無色、無味的隋性氣體。主要有離子源、分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計組成，離子源是氣體電離，形成一束具有特定能量的離子，分析器是一個均勻的磁場空間，不同離子的質荷比不同。相對分子質量為4.003，分子直徑為2.18×10-10m，分子的質量為3.65×10-27kg，在標準狀態下的密度為0.1769kg/m3，臨界溫度為5.25K，臨界壓力為2.26×105Pa，1atm壓力下的沸點為4.214K，熔點為0.9K，三相點溫度為2.186K，三相點壓力為51.1×10-2Pa，在標準狀態下的熱導率為510.79J/(m·h·K)，在標準狀態下的定壓比熱為5233J/(kg·K)，在標準狀態下的動力粘度系數為1.86×10-5Pa·s，1L液氦氣化為標準狀態下的氦氣體積為700L。

國家標準規定的瓶裝氦氣按純度高低分別為工業用氦、純氦、高純氦三種。

1、工業用氦：氦含量≥99%，露1點≤43℃.

2、純氦分三級：優等品氦含量≥99.995%；一等品氦含量≥99.993%；合格品氦含量≥99.99%。

3、高純氦分為三級：優等品氦含量≥99.9996%；一等品氦含量≥99.9993%；合格品氦含量≥99.999%。

氦氣在氦質譜檢漏儀檢漏中作為示蹤氣體使用，純度要求不高，一般選用工業用氦，即氦含量≥99%，露1點≤43℃。

氦質譜檢漏儀的主要配置

北京科創鼎新真空技術有限公司（簡稱：科創真空）是從事真空系統設計、制造及真空技術服務的專業化公司。公司致力于真空氦檢漏設備、非標真空系統設計開發與制造。

1. 檢漏儀專用分子泵

2. 機械泵或者干泵

3. 定制檢漏儀專用電磁閥

4. 內置標準漏口

5. 放大器

6. 采用質譜專用模塊

以上是科創真空為您一起分享的內容，科儀創新專業生產氦檢漏，歡迎新老客戶蒞臨。

氦質譜檢漏儀應用于化工管道檢漏

化學氣體大部分為有毒氣體，對人體造成很大的傷害，甚至會出現停止呼吸而。05Pa以下），適合檢大型容器或有大漏的器件，也適合吸槍檢漏。化學氣體泄漏事故不僅給公司造成巨額損失，而且給周邊村民造成傷害，生態環境也會遭到嚴重受損。為了避免事故的發生，化工廠商在投建廠房時就應該對化學管道和設備做氣密檢漏并且后期生產中也需要定期檢漏。常用的傳統氣體管道檢漏方法，如氣泡法和肥皂法在化工廠等有害氣體的管道檢漏不實用，檢測到微漏的氦質譜檢漏儀成為了化工廠安全生產作業的保障。

氦質譜檢漏儀是用示蹤氣體氦氣的專門用于檢漏的儀器，它性能穩定，靈敏度高，是真空檢漏技術中較成熟的設備，使用比較普遍的檢漏儀。為工廠作業人員的安全以及環境保護，氦質譜檢漏儀成為化工管道檢漏的不二的選擇。

氦質譜檢漏儀在管道檢測方面有兩種檢測方法，負壓法和正壓法，一般化工管道采用的是負壓法。負壓法就是常說的抽真空，這是氦質譜檢漏儀常用的檢漏方法。由于采用了氦質譜檢漏儀彌補了傳統檢漏的不做，同時可以檢漏漏點和漏率。檢漏的方式是：鏈接被檢化工管道和真空泵組以及氦質譜檢漏儀，用真空泵組把管道抽真空，達到一定真空度。使用氦氣噴槍在管道密封接頭，焊縫處噴氦，如果被檢管道某處有泄漏，當氦噴到漏孔上時，氦氣會立刻被吸入到真空系統，從而擴散到質譜室內，氦質譜檢漏儀感應到氦就會立刻有響應。從而達到了檢漏的結果。氦氣是較輕的惰性氣體，在噴出時會自動上升，為了準確找到漏孔位置噴氦，使用此方法時噴氦自上而下，由近至遠（相對檢漏儀的位置），這是因為在下方時有可能被上方漏孔吸入；漏孔距離質譜室的距離檢漏儀反應時間也不同，所以噴氦氣應先從靠近檢漏儀的一側開始由近至遠進行。