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發(fā)布時(shí)間:2021-03-05 15:31  
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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng),選用方解石是因?yàn)槠涞慕贤饩€穿透率。掩模版遮光一部分用Cr,因此有時(shí)候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線,在于你常用的光刻膠,每個(gè)光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。
尺寸漲縮原因分析
膠片在光繪前沒有經(jīng)過預(yù)置
由于膠片制造時(shí)無法預(yù)先控制膠片中的濕度與每個(gè)生產(chǎn)車間的濕度一致,因此使用之前應(yīng)先使其與工作環(huán)境達(dá)到平衡的狀況。建議預(yù)置時(shí)間為12小時(shí),預(yù)置時(shí)必須打開膠片的內(nèi)包裝,使其與外界的空氣充分接觸。
光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標(biāo)。
掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金屬鉻薄膜,通過類似照相制版的方法制備而成。使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件,對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光(曝光波長(zhǎng)405nm),照射掩膜版上所需圖形區(qū)域,使該區(qū)域的光刻膠(通常為正膠)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)過顯影、定影后,曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落,暴露出下面的鉻層。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備,其制作過程就是典型的光刻工藝過程,包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。