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真空鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。冷凝泵的抽氣速率及影響冷凝泵的抽氣速率與冷凝表面的面積大小有關系，經數據顯示，單位冷凝表面積下的抽氣速率為11。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜。

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真空鍍膜設備真空泵的選擇

真空泵工作時產生的振動對工藝過程及環境有無影響。若工藝過程不允許，應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。

了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆粒灰塵，有無腐蝕性等。選擇真空泵時，需要知道氣體成分，針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備，如冷凝器、除塵器等。

真空泵在其工作壓強下，應能排走真空設備工藝過程中產生的全部氣體量。

真空設備對油污染的要求。若設備嚴格要求無油時，應該選各種無油泵，如：水環泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴格，可以選擇有油泵，加上一些防油污染措施，如加冷阱、障板、擋油阱等，也能達到清潔真空要求。

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現代真空鍍膜機膜厚測量及監控方法

涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅動的蒸發源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發率。只要儀器和系統控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。多功能真空鍍膜機真空鍍膜機工作時，需要先抽真空，使真空室處于真空狀態，再進行鍍膜。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監測代替光學厚度的涂層質量。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區域，導致薄膜的重大錯誤。 光學監測是一種涂層優選的監控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。

精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學厚度的監測。optimalswa-i-05單一波長的光學監測系統，是間接控制，鍍膜機先進的光學監測軟件結合王博士的發展，有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少終的誤差的理論方法，提供監測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。鍍膜機操作程序真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。特別適用于涂布各種薄膜厚度監控包括不規則的膜。