武漢實驗室專用鍍膜機值得信賴

磁控濺射鍍膜設備鍍膜優勢

磁控濺射鍍膜機有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機殼、五金等。它的優勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發裝置等，設備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機實現鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產成本低，綠色環保。該設備主要廣泛應用于電腦殼、手機殼、家用電器等行業，可鍍制金屬膜、合金膜、復合膜層、透明(半透明)膜、不導電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一真空鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設備的用途和靈活性。該設備應用于手機殼等塑料表面金屬化，應用于不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。

pvd鍍膜設備鍍出的膜層出現異樣,是什么原因

之前有少數客戶會咨詢我們，為什么PVD鍍膜設備鍍出來的膜，偶爾會出現異樣的情況，問具體是什么原因。經過我們技術人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費水平的提升，人們對產品外觀要求也越來越更高，PVD鍍膜的應用也越來越廣泛。PVD鍍膜設備也獲得越來越多的制造業廠家認可和喜愛，它的優勢也是顯而易見的。大家都知道機器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術。和傳統的電鍍技術相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強。但是大家也都知道它的缺點，PVD電鍍工藝不良率高、生產效率低、膜后不穩定以使顏色穩定性差等，這是整個行業的痛點。隨著后期技術不斷的發展，環保要求門檻不斷提高，傳統電鍍逐漸將被替代及消費者對產品外觀的提高，真空鍍膜技術在未來會有更廣闊的發展前景。

真空電鍍設備的監控方法

真空電鍍設備的監控方法 1、目視監控：使用眼睛監控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現象會有顏色變化，我們就是根據顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經驗。 2、極值監控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監控波長（入）的四分之一的整倍數。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監控法：此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。

適合于真空對潔凈環境的要求

適合于真空對潔凈環境的要求 工業環境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態的物質。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數的微小物質。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態存在于氣體中的物質體系。物質無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態均可統稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標準，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業部門，也適合于真空對潔凈環境的要求。