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發布時間:2020-07-29 23:24  
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鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現在已經在工業領域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。
在二十世紀七十年代末,人類就已經開始物理氣相沉積技術,即PVD技術。物理氣相沉積技術可以應用在硬質膜的制造上,它能夠提高產品的機械化學性能,使制造出的產品具有高耐磨性、高硬度等性能,還可以減輕摩擦作用。清洗效果,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強了附著力,簡化了大量的鍍前清洗工作。這種技術在剛開始使用時,就在世界各國的工具制造業引起了巨大的反響,受到了高度重視。同時,這種技術工藝符合現代人們對環境無污染加工技術的要求,是一種綠色環保的技術。
PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。
蒸發鍍膜
真空條件下,將鍍料加熱蒸發或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發鍍膜技術。
采用電阻加熱蒸發源的蒸發鍍膜技術,一般用于蒸發低熔點材料,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。
離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術,使鍍料原子部分電離成離子,同時產生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。
九、離子鍍的工藝過程:蒸發料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。