uv光解凈化設(shè)備優(yōu)選企業(yè)

UV光解法

UV光解法利用UV光解凈化設(shè)備發(fā)出的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解H2S、硫化物、VOC類的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

UV光解凈化設(shè)備投資小，處理風(fēng)量大，處理濃度高，運(yùn)營成本低，操作管理簡單，脫臭效率較高，無二次污染等特點(diǎn)，使其在有機(jī)廢氣處理方面具有得天獨(dú)厚的優(yōu)勢而被眾多環(huán)保公司優(yōu)先采用凈化處理工業(yè)廢氣。

1、UV光催化設(shè)備無任何機(jī)械裝置，無運(yùn)動(dòng)噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗，達(dá)到節(jié)能的目的。

2、UV光催化設(shè)備采用光解原理，采取了隔爆處理，消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高，設(shè)備性能安全穩(wěn)定，特別適用于高濃度yi燃yi爆廢氣的場合。

UV光解設(shè)備是利用的高能臭氧UV紫外線光束照射氣體，使之裂解，并且在紫外線的照射下降解成無毒無害的水和二氧化碳等。

而等離子除臭設(shè)備是利用高能電子以及自由基等活性粒子和廢氣中的污染物的作用，從而降解污染物。使污染物在短時(shí)間內(nèi)分解，達(dá)到凈化氣體的目的。

兩種設(shè)備各有不同，也各有優(yōu)勢，在其中選擇時(shí)不妨資詢相關(guān)技術(shù)人員的建議，做出z好的選擇。